光刻膠系列——精準控制，助力半導體制造

在半導體制造領域，光刻膠的品質(zhì)直接關系到電路圖案的精度和可靠性。我們?yōu)槟峁┝艘幌盗懈咂焚|(zhì)的光刻膠產(chǎn)品，滿足不同工藝需求，助力您實現(xiàn)半導體制造。

一、高分辨率光刻膠——精細圖案，輕松實現(xiàn)

S1800 G2系列光刻膠，包括S1805 G2、S1813 G2、S1818 G2等型號，是高分辨率正膠，膠厚范圍0.4-2.7um。它們具有優(yōu)異的粘附性和極限線寬0.5um，適用于小線寬雙層膠lift-off工藝，與LOR/PMGI系列搭配使用，實現(xiàn)精細圖案。

二、SPR955-CM系列光刻膠——極限線寬，挑戰(zhàn)精度極限

SPR955-CM系列光刻膠，膠厚范圍0.7-3.5um，極限線寬可達0.35um。該系列光刻膠粘附性好，適用于高精度圖案制作。

三、ROL-7133與SUN-lift 1303光刻膠——國產(chǎn)優(yōu)質(zhì)，性價比高

作為國產(chǎn)光刻膠的代表，ROL-7133和SUN-lift 1303均為常用負膠，適用于g/h/ i-line光源，膠厚范圍2.2-4um。它們底切角度適中，可用于lift-off工藝制作金屬電極或?qū)Ь€。

四、多用途光刻膠——滿足多樣化需求

AZ 5214E、AZ 4620、AZ MIR 701/703、SU-8等光刻膠，分別適用于正性薄膠、正性厚膠、高分辨率正膠和高深寬比負膠等多種場景。無論是做絕緣層、微流控，還是干法/濕法刻蝕、電鍍等工藝，都能找到合適的光刻膠。

五、特殊工藝光刻膠——專業(yè)定制，助力創(chuàng)新

AZ nLOF 2000系列、SPR220系列、AZ 1500系列光刻膠，專為特殊工藝設計。無論是耐高溫Lift-off工藝，還是雙層膠lift-off工藝底層膠，都能提供專業(yè)支持。

此外，我們還提供圖形反轉膠、電子束光刻膠、LOR光刻膠、PMGI SF光刻膠等多種產(chǎn)品，滿足正性光刻膠、負性光刻膠、厚光刻膠、薄光刻膠、紫外光刻膠、底層膠等多種需求。