AD-3000 MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設(shè)備
| 參考價(jià) | ￥ 13000 |
| 訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱 高斯摩(成都)國(guó)際貿(mào)易有限公司
- 品牌 MIKASA/米卡薩
- 型號(hào) AD-3000
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2025/5/28 15:29:10
- 訪問次數(shù) 52
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主要經(jīng)營(yíng)光學(xué)設(shè)備、電子計(jì)測(cè)、科學(xué)儀器、機(jī)械加工設(shè)備、環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備、PC周邊用品、作業(yè)工具用品、電源、化學(xué)用品、FA自動(dòng)化上萬種產(chǎn)品的銷售。
MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設(shè)備 AD-3000
MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設(shè)備 AD-3000
顯影和蝕刻設(shè)備是半導(dǎo)體制造和微電子加工中的核心工藝裝備，主要用于圖形轉(zhuǎn)移和微納結(jié)構(gòu)加工。顯影設(shè)備通過化學(xué)溶液去除曝光后的光刻膠可溶部分，形成所需圖案；蝕刻設(shè)備則通過物理或化學(xué)方法去除未被光刻膠保護(hù)的基底材料，實(shí)現(xiàn)圖形轉(zhuǎn)移。
主要設(shè)備類型：
顯影設(shè)備：
噴淋式顯影機(jī)
浸漬式顯影機(jī)
超聲波輔助顯影機(jī)
蝕刻設(shè)備：
濕法蝕刻設(shè)備（化學(xué)溶液）
干法蝕刻設(shè)備（等離子體）
反應(yīng)離子蝕刻（RIE）
深硅蝕刻（DRIE）
設(shè)備優(yōu)點(diǎn)
工藝優(yōu)勢(shì)：
高分辨率圖形轉(zhuǎn)移
優(yōu)異的選擇比控制
低損傷加工
生產(chǎn)效益：
高吞吐量（最高300片/小時(shí)）
工藝穩(wěn)定性好（CPK>1.67）
設(shè)備利用率高（>90%）
成本優(yōu)勢(shì)：
材料消耗低
維護(hù)成本可控
能耗優(yōu)化
技術(shù)優(yōu)勢(shì)：
支持優(yōu)良節(jié)點(diǎn)工藝
兼容多種技術(shù)路線
便于工藝升級(jí)
質(zhì)量?jī)?yōu)勢(shì)：
缺陷率低（<0.1%）
均勻性好（<3%）
重復(fù)性高
顯影和蝕刻設(shè)備作為微納制造的關(guān)鍵裝備，其技術(shù)水平直接決定了集成電路和微器件的性能與可靠性。隨著半導(dǎo)體技術(shù)節(jié)點(diǎn)的不斷推進(jìn)和新興應(yīng)用的涌現(xiàn)，新一代設(shè)備正向著更高精度、更高效率、更智能環(huán)保的方向發(fā)展。未來，這些設(shè)備將繼續(xù)在推動(dòng)信息技術(shù)進(jìn)步、賦能新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展方面發(fā)揮不可替代的作用。
室 | 不銹鋼 | 轉(zhuǎn)速 | 0~3,000轉(zhuǎn)/分 |
基板尺寸 | φ1“ ~ φ12” （220×220mm） | 聯(lián) 鎖 | 真空吸附確認(rèn)傳感器 加工腔蓋聯(lián)鎖 噴嘴移動(dòng)超限 限制器 |
化學(xué)泵送 | 加壓罐壓力泵 | ||
化學(xué)品排放 | 噴霧排放 （擺動(dòng)噴嘴型） | 權(quán)力 | AC200V 三相 15A |
| 尺寸 （mm） 當(dāng)門打開時(shí) | 720W×500H×520D 910H | ||
步數(shù) | 48 步 跳拷貝功能 | ||
| 程序模式 | 10 模式 | 重量 | 60 公斤 |
| 工藝（標(biāo)準(zhǔn)） | 開發(fā)商：1 個(gè)系統(tǒng)（2 個(gè)噴嘴） 沖洗：1 個(gè)系統(tǒng)（2 個(gè)噴嘴） 反 沖洗：1 個(gè)系統(tǒng) | 關(guān)鍵選項(xiàng) | 化學(xué)溫度管理系統(tǒng) （加壓法） 各種基板支架 安裝工作臺(tái) |
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