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產品介紹
MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設備 AD-1200
MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設備 AD-1200
顯影和蝕刻設備是半導體制造和微電子加工中的核心工藝裝備，主要用于圖形轉移和微納結構加工。顯影設備通過化學溶液去除曝光后的光刻膠可溶部分，形成所需圖案；蝕刻設備則通過物理或化學方法去除未被光刻膠保護的基底材料，實現(xiàn)圖形轉移。
主要設備類型：
顯影設備：
噴淋式顯影機
浸漬式顯影機
超聲波輔助顯影機
蝕刻設備：
濕法蝕刻設備（化學溶液）
干法蝕刻設備（等離子體）
反應離子蝕刻（RIE）
深硅蝕刻（DRIE）
設備優(yōu)點
工藝優(yōu)勢：
高分辨率圖形轉移
優(yōu)異的選擇比控制
低損傷加工
生產效益：
高吞吐量（最高300片/小時）
工藝穩(wěn)定性好（CPK>1.67）
設備利用率高（>90%）
成本優(yōu)勢：
材料消耗低
維護成本可控
能耗優(yōu)化
技術優(yōu)勢：
支持優(yōu)良節(jié)點工藝
兼容多種技術路線
便于工藝升級
質量優(yōu)勢：
缺陷率低（<0.1%）
均勻性好（<3%）
重復性高
顯影和蝕刻設備作為微納制造的關鍵裝備，其技術水平直接決定了集成電路和微器件的性能與可靠性。隨著半導體技術節(jié)點的不斷推進和新興應用的涌現(xiàn)，新一代設備正向著更高精度、更高效率、更智能環(huán)保的方向發(fā)展。未來，這些設備將繼續(xù)在推動信息技術進步、賦能新興產業(yè)發(fā)展方面發(fā)揮不可替代的作用。
室 | 不銹鋼 | 轉速 | 0~3,000轉/分 |
基板尺寸 | φ1“~φ6" （150×150mm） | 聯(lián) 鎖 | 真空吸附確認傳感器 加工腔蓋聯(lián)鎖 噴嘴移動超限 限制器 |
化學泵送 | 內置泵使用 | ||
化學品排放 | 噴霧排放 （擺動噴嘴型） | 權力 | 交流 100V 4A |
| 尺寸 （mm） 當門打開時 | 550W×440H×400D 740H | ||
步數(shù) | 96 步 跳拷貝功能 | ||
| 程序模式 | 10 模式 | 重量 | 33 千克 |
| 工藝（標準） | 顯影劑：1 行， 漂洗：1 行， 背洗：1 個系統(tǒng) | 關鍵選項 | 化學溫度管理系統(tǒng) （加壓法） 各種基板支架 安裝工作臺 |
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