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精子分選動物實驗室畜牧解決方案是一種用于檢測和分析男性精液樣本的醫(yī)療設(shè)備，主要用于評估男性的生育能力。該設(shè)備通過高分辨率成像技術(shù)和計算機輔助分析系統(tǒng)，能夠提供關(guān)...

安捷倫代理商是一款先進(jìn)的分析儀器，它結(jié)合了安捷倫在色譜技術(shù)領(lǐng)域的深厚經(jīng)驗與創(chuàng)新技術(shù)。該系統(tǒng)設(shè)計用于提供高靈敏度、高分辨率的性能，適用于各種復(fù)雜樣品的分析需求。

氣相液相儀華粵行IVF顯微操作胚胎移植是一種輔助生殖技術(shù)，它涉及使用顯微鏡和精細(xì)的工具在體外進(jìn)行胚胎的植入。這種技術(shù)通常用于體外受精（IVF）過程中，以提高受孕...

奧林巴斯Olympus顯微鏡CX33在設(shè)計技術(shù)上適應(yīng)于人體工學(xué)的要求，使長時間工作觀察也倍感舒適，提高了工作效率。高質(zhì)量的奧林巴斯生物顯微鏡CX33采用LED照...

奧林巴斯Olympus偏光顯微鏡CX31P可以執(zhí)行正規(guī)偏振光觀察和多種延遲測量，操作便捷，容易攜帶，對使用場地也無太多要求，CX31P是采用最新雙目鏡筒可保持目...

奧林巴斯Olympus顯微鏡CX31作為堅固耐用的高性能和長壽命且采用環(huán)保無鉛玻璃的新一代生物顯微鏡奧林巴斯OlympusCX31，.該顯微鏡在非常暢銷的CH系...

奧林巴斯CX23生物顯微鏡的技術(shù)參數(shù)也稱為技術(shù)指標(biāo)，當(dāng)用戶需要購買或者了解CX23時，需要有技術(shù)參數(shù)作為參考，參數(shù)和配置是光學(xué)顯微鏡的重要信息，本文主要介紹CX...

奧林巴斯CX22常規(guī)生物顯微鏡光學(xué)參數(shù)奧林巴斯CX22是奧林巴斯顯微鏡公司未滿足最常規(guī)的教學(xué)觀察的入門級生物顯微鏡，即便如此，奧林巴斯也是源自日本的品牌，其光學(xué)...

奧林巴斯顯微鏡CKX53具有成像質(zhì)量高、易于操作的特點，對于諸多細(xì)胞培養(yǎng)需求，例如活細(xì)胞觀測、細(xì)胞取樣和處理、圖像捕捉以及熒光觀測來說，奧林巴斯Olympus ...

奧林巴斯Olympus顯微鏡CKX41采用獨chuang的UIS2光學(xué)系統(tǒng)，獨chuang的光學(xué)系統(tǒng)把無限遠(yuǎn)校正功能的優(yōu)勢發(fā)揮的十分優(yōu)秀，光路中的光通過物鏡后會...

x射線x-rad斷層掃描ct：公司制造X射線工業(yè)設(shè)備用于控制產(chǎn)品質(zhì)量，如應(yīng)用于汽車、航空和食品等部門。此外，公司制造的X射線設(shè)備也應(yīng)用于醫(yī)療和安全部門。每個產(chǎn)品...

工業(yè)半導(dǎo)體微納加工二維材料實驗室設(shè)備簡要描述：SENTECH二維材料刻蝕沉積能夠在低溫100C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層，在樣品表面提供高通量的反...

賽默飛實驗室設(shè)備簡要描述：賽默飛Talos™F200X掃描/透射電子顯微鏡提供速，納米材料多維定 量表征。由于配備了多種創(chuàng)新功能以提高效率、精度 和...

國產(chǎn)實驗室儀器設(shè)備簡要描述：聚焦離子束顯微鏡國產(chǎn)FIB是指由國內(nèi)廠家自主研發(fā)和生產(chǎn)的聚焦離子束顯微鏡。這種設(shè)備在微納加工、材料科學(xué)、失效分析等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用。

PE鉑金埃爾默ICPMS是美國鉑金埃爾默公司（PerkinElmer, Inc.）推出的一款高性能的電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（Inductively Couple...

血液分析工作站CAL 6000搭載基于SF Cube 2.0平臺的BC-6000 或BC-6000Plus，以及SC-120推片染 色機，為靜脈全血、末梢全血提...

血液分析工作站CAL 8000是邁瑞醫(yī)療推出的一款血液分析解決方案，通過集成高性能的血液細(xì)胞分析、全自動CRP分析模塊以及智能化的推片染色機等子模塊，實現(xiàn)了血常...

血液分析工作站CAL 3000通過整合先進(jìn)的血液分析和CRP分析系統(tǒng)（如CRP-M100），實現(xiàn)了血液樣本的全面、快速、準(zhǔn)確分析。該系統(tǒng)不僅提高了臨床實驗室的工...

蛋白穩(wěn)定分析儀 PR Panta結(jié)合了微量差示掃描熒光（nanoDSF）、動態(tài)光散射（DLS）、靜態(tài)光散射（SLS）以及背反射（Backreflection）等...

氣相沉積光刻機刻蝕機磁控濺射簡要描述：化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PECVD沉積設(shè)備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行SiO2、SiNx、SiOxN...