目錄:蘇州華維納納米科技有限公司>>LDW-P納米激光直寫系統(tǒng)>> 納米光電子設(shè)備
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工 | 激光波長 | 405nm |
|---|---|---|---|
| 特征尺寸 | 100nm | 激光功率 | 120mW至300mW（可選） |
| 刻寫范圍 | 50mm×50mm至100mm×100mm（可選） |
蘇州華維納納米科技有限公司于2011年注冊成立的高科技創(chuàng)新型公司，公司由歸國和國內(nèi)的高層次人才組成，公司設(shè)有博士后流動站。
納米光電子設(shè)備采用全新的技術(shù)路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實現(xiàn)納米尺度加工；突破了目前激光直寫僅能用于有機光刻膠的現(xiàn)狀，可以廣泛應(yīng)用于各種受體材料，極大地擴展了激光直寫設(shè)備的應(yīng)用范圍。
新一代激光直寫光刻設(shè)備特點
具有核心知識產(chǎn)權(quán)的國產(chǎn)激光直寫設(shè)備
具有超越衍射極限的加工能力
納米光電子設(shè)備可適用于多種受體材料
本公司可根據(jù)客戶需要提供定制設(shè)備并提供各種微納結(jié)構(gòu)樣品的加工服務(wù)。
部分加工樣品如下圖
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