德國 GEMU 閥門 560 系列 技術指導
德國 GEMU 公司推出的 560 系列閥門,憑借其精密設計、材料創(chuàng)新與智能化特性,成為半導體工藝中流體控制的核心解決方案。
GEMU 560 系列采用角座設計,流體通道呈 90° 直角布局,有效減少紊流現(xiàn)象,降低壓力損失。這種結構在半導體制造中尤為重要:
閥體采用 PFA(全氟烷氧基樹脂)或 PTFE(聚四氟乙烯)等高性能工程塑料,具有以下優(yōu)勢:
耐腐蝕性:在氫氟酸、硫酸等腐蝕性介質的輸送中,560 系列閥門的塑料閥體可抵御長期侵蝕,避免金屬部件的銹蝕風險。
低吸附性:PTFE 材質表面光滑,減少了光刻膠、電子化學品等敏感介質的非特異性吸附,適用于高純度流體的處理。
輕量化:塑料材質比傳統(tǒng)金屬閥門減重約 40%,便于半導體設備的集成與維護。
560 系列提供多種連接方式(螺紋、卡套、法蘭),并支持 ISO、DIN 等國際標準,便于與*主流半導體設備集成。其密封系統(tǒng)采用雙層 O 型圈設計(如氟橡膠 FKM 與 PTFE 組合),在 - 20℃至 80℃的寬溫域內保持穩(wěn)定密封性能,適用于:
560 系列閥門內置智能驅動模塊,支持以下通信協(xié)議:
部分型號集成壓力、溫度傳感器,可實時監(jiān)測流體狀態(tài)并上傳數據至 MES 系統(tǒng)。例如:
560 系列閥門與自動化設備的協(xié)同應用:
光刻膠涂布:在光刻膠循環(huán)管路中,560 系列閥門的低壓力損失設計確保光刻膠顆粒均勻分散,避免涂布缺陷。
顯影液輸送:在顯影環(huán)節(jié),閥門精確控制顯影液的流量,提高顯影精度與一致性。
刻蝕氣體控制:在刻蝕機中,閥門控制氟基氣體的流量,確??涛g速率的穩(wěn)定性與均勻性。
CVD 前驅體輸送:在化學氣相沉積過程中,閥門的高密封性設計可避免前驅體氣體泄漏,保障薄膜質量。