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參考價	面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品分類 品牌分類

光催化及光敏材料測試設(shè)備

光催化專用太陽光模擬器高準(zhǔn)直紫外光源
鈣鈦礦LED/OLED測試設(shè)備

發(fā)光效率測量系統(tǒng) 光譜分析系統(tǒng) 光電性能測量系統(tǒng)
日本SAN-EI 太陽光模擬器

LED太陽光模擬器 AAA+級雙光太陽光模擬器 AAA太陽光模擬器 150W 太陽光模擬器聚光太陽光模擬器太陽能電池IV性能測試儀太陽能電池組件測試儀太陽能電池測試多通道太陽能電池穩(wěn)定性測試 OLED模擬軟件太陽能電池穩(wěn)定性測試太陽能電池載流子測試光纖太陽光模擬器光譜響應(yīng)/量子效率量測儀全光譜太陽光模擬器太陽能電池量子效率測試系統(tǒng) AAA級太陽光模擬器雙燈太陽光模擬器穩(wěn)態(tài)太陽光模擬器瞬態(tài)光電流/光電壓測試系統(tǒng) 太陽能電池載流子測試設(shè)備載流子擴散長度測試系統(tǒng)
薄膜性能測試設(shè)備

薄膜應(yīng)力測試儀薄膜熱應(yīng)力測量系統(tǒng) 薄膜生長速率測試儀薄膜/涂層殘余應(yīng)力儀電池電極應(yīng)力測試系統(tǒng) 薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng) 原位薄膜應(yīng)力測試儀薄膜應(yīng)力測試系統(tǒng) kSA BandiT實時襯底溫度測試儀 kSA 400 RHEED分析系統(tǒng) 反射高能電子衍射儀 RHEED 應(yīng)力測量系統(tǒng)
共聚焦顯微鏡

電化學(xué)反應(yīng)共聚焦系統(tǒng) 三維光學(xué)共聚焦顯微鏡三維表面輪廓儀
激光光束質(zhì)量分析儀

激光質(zhì)量分析儀 UV光束分析儀 Shack-Hartmann波前傳感器 EUV/XUV波前傳感器波前曲率傳感器光熱弱吸收測量儀高功率激光材料測試儀大光斑激光光束分析儀高功率激光光束分析儀激光光束分析儀
納米材料制備設(shè)備

石墨烯制備系統(tǒng)（CVD）噴霧熱解成膜系統(tǒng) 碳納米管CVD制備系統(tǒng) 原子層沉積系統(tǒng) 卷對卷涂布系統(tǒng) 涂布機
微納米加工設(shè)備

桌面型激光直寫系統(tǒng) 臺式無掩膜光刻系統(tǒng) 納米壓印系統(tǒng)
介電/壓電材料測試設(shè)備

電卡效應(yīng)測試儀高溫介電測試系統(tǒng) 熱釋電測試儀熱刺激電流測試儀精密壓電系數(shù)測試儀高分子壓電系數(shù)測試儀高場寬頻譜介電測量系統(tǒng) 低溫寬頻介電測量系統(tǒng) 電滯回線及高壓介電擊穿強度測試系統(tǒng) 高壓漏電流及熱釋電測量系統(tǒng) 電容充放電測試儀
太陽能電池測試設(shè)備

瞬態(tài)光電壓測試瞬態(tài)光電流測試太陽能電池老化測試太陽能電池老化壽命測試儀鈣鈦礦太陽能電池測試儀太陽能電池單體測試儀太陽能電池測試夾具太陽能電池IV測試軟件
氙燈電源
高純度鈣鈦礦前驅(qū)體材料
其他相關(guān)設(shè)備

產(chǎn)品簡介

產(chǎn)地類別	進口	價格區(qū)間	面議
應(yīng)用領(lǐng)域	環(huán)保,化工,地礦,能源,電子/電池

鋰離子電池電極應(yīng)力測量系統(tǒng)采用多光束光學(xué)傳感器系統(tǒng)（kSA MOS）原位實時應(yīng)力測量分析，可研究鋰離子電池反應(yīng)動力學(xué)過程中或在正常使用過程中內(nèi)部會產(chǎn)生應(yīng)力，對其電化學(xué)性能的影響；即就是在充放電過程中鋰離子電池外殼表面的應(yīng)力變化,得到了充放電循環(huán)中鋰離子電池電極表面的應(yīng)力大小與電荷狀態(tài)的關(guān)系；進而分析充放電過程中應(yīng)力變化的異同,即產(chǎn)生不可逆應(yīng)力,充放電曲線不重合。

詳細(xì)介紹

鋰離子電池電極應(yīng)力測量系統(tǒng)采用非接觸激光MOS技術(shù)；不但可以對樣品表面應(yīng)力分布進行統(tǒng)計分析，而且還可以進行樣品表面二維應(yīng)力、曲率成像分析；客戶可自行定義選擇使用任意一個或者一組激光點進行測量；并且這種設(shè)計始終保證所有陣列的激光光點始終在同一頻率運動或掃描，從而有效的避免了外界振動對測試結(jié)果的影響；同時提高測試的分辨率；適合各種材質(zhì)和厚度薄膜應(yīng)力分析；鋰離子電池電極應(yīng)力測量系統(tǒng)

原位薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng)kSA MOS Film Stress Measurement System，又名原位薄膜應(yīng)力計或原位薄膜應(yīng)力儀！

采用非接觸激光MOS技術(shù)；不但可以對樣品表面應(yīng)力分布進行統(tǒng)計分析，而且還可以進行樣品表面二維應(yīng)力、曲率成像分析；客戶可自行定義選擇使用任意一個或者一組激光點進行測量；并且這種設(shè)計始終保證所有陣列的激光光點始終在同一頻率運動或掃描，從而有效的避免了外界振動對測試結(jié)果的影響；同時提高了測試的分辨率；適合各種材質(zhì)和厚度薄膜應(yīng)力分析；

典型用戶：Harvard University 2套，Stanford University，Johns Hopkins University，Brown University 2套，Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute，西安交通大學(xué)，中國計量科學(xué)院等、半導(dǎo)體和微電子制造商（如IBM.，Seagate Research Center,Phillips Semiconductor,NEC，Nissan ARC,Nichia Glass Corporation）等；

鋰離子電池電極應(yīng)力測量系統(tǒng)

相關(guān)產(chǎn)品：
*實時原位薄膜應(yīng)力儀（kSA MOS Film Stress Tester）：同樣采用多光束MOS技術(shù)，可裝在各種真空沉積設(shè)備上（如：MBE, MOCVD, sputtering, PLD, PECVD, and annealing chambers ects），對于薄膜生長過程中的應(yīng)力變化進行實時原位測量和二維成像分析；
*薄膜熱應(yīng)力測量系統(tǒng)（kSA MOS Thermal-Scan Film Stress Tester）
*薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng)（kSA MOS Film Stress Measurement System）

設(shè)備名稱：

kSA MOS Film Stress Tester, kSA MOS Film Stress Measurement System，kSA MOS Film Stress Mapping System;

主要特點：

1.MOS多光束傳感器技術(shù)；
2.單Port(樣品正上方)和雙Port(對稱窗口)系統(tǒng)設(shè)計；
3.適合MOCVD, MBE, Sputter，PLD、蒸収系統(tǒng)等各種真空薄膜沉積系統(tǒng)以及熱處理設(shè)備等；
4.薄膜應(yīng)力各向異性測試和分析功能；
5.生長速率和薄膜厚度測量；（選件）
6.光學(xué)常數(shù)n&k 測量；（選件）
7.多基片測量功能；（選件）
8.基片旋轉(zhuǎn)追蹤測量功能；（選件）
9.實時光學(xué)反饋控制技術(shù)，系統(tǒng)安裝時可設(shè)置多個測試點；
10.免除了測量丌受真空系統(tǒng)振動影響；

測試功能：

1.實時原位薄膜應(yīng)力測量
2.實時原位薄膜曲率測量
3.實時原位應(yīng)力*薄膜厚度曲線測量
4.實時原位薄膜生長全過程應(yīng)力監(jiān)控等

充放電過程

鋰離子電池電極應(yīng)力測量系統(tǒng)