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NanoSystem NV-3200非接觸式3D光學(xué)輪廓儀為L(zhǎng)CD、IC Package、Substrate、Build-up PCB、MEMS，Engineering Surfaces等領(lǐng)域提供納米級(jí)別精度的測(cè)量.

包括：非接觸3D形貌測(cè)量，更廣的測(cè)量范圍（5mm可選），自動(dòng)聚焦功能（可選），拼接和線路縱斷面等功能。

NanoSystem NV-3200非接觸式3D光學(xué)輪廓儀技術(shù)參數(shù)

干涉物鏡：5物鏡可選(程控）

掃描范圍：0-180um（270um，5mm可選）

垂直分辨率：WSI：﹤0.5nm ，PSI ：﹤0.1nm

橫向分辨率：0.2-4um（取決于物鏡和FOV）

傾斜度：±6°

工作平臺(tái)：NV-P2020  200X200mm（程控）    

NV-P4050  400X500mm（程控）