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| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子/電池 |
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PICOMASTER 是一系列直接激光刻錄機，可使用單個激光束創(chuàng)建高分辨率結(jié)構(gòu)。這款多功能、低維護的激光刻錄機可為特征和光柵周期提供分辨率。用戶友好的 PICOMASTER 系列為您的激光光刻挑戰(zhàn)提供了解決方案。
具有以下功能：
單聚焦光束寫入策略
分辨率低至 0.3 μm
4096級灰度光刻
即使在具有挑戰(zhàn)性的基材上也能進行專有自動對焦
最大 8" x 8" 暴露區(qū)域
無縫合曝光
PICOMASTER 直接激光刻錄機為您的微加工需求提供解決方案。
提供 405 和 375 激光源，保證 300 nm 的分辨率，因此 PICOMASTER 直接激光刻錄機可產(chǎn)生市場上最高分辨率。這些無掩模直接激光刻錄機增強了科學(xué)和工業(yè)目的的創(chuàng)新實力，為光子器件、微電子、MEMS、3D 光刻、光學(xué)可變器件 (OVD)、衍射光學(xué)元件等領(lǐng)域的研發(fā)帶來了機會。
P RECISION：即使對于精細劑量也能提供高精度激光功率控制，即使在具有挑戰(zhàn)性的樣品上也能自動對焦，并且具有對準(zhǔn)精度
解決方案：為特征和光柵提供的分辨率，特征周期低至 300 nm 以下
優(yōu)化：可以通過桌面或獨立系統(tǒng)選擇、適當(dāng)?shù)募す庠床ㄩL和寫入模式選擇來針對任何類型的應(yīng)用進行優(yōu)化
輪廓分析：提供高達 4096 級的灰度功能，而不影響曝光速度，實現(xiàn)2.5D 抗蝕劑輪廓分析
易于使用：內(nèi)部設(shè)計的對齊工具和強大的用戶界面支持輕松的樣品處理，方便處理最常見的文件格式
降低維護成本：通過免維護運動平臺和長壽命光學(xué)模塊（10,000 小時）實現(xiàn)平穩(wěn)、快速且經(jīng)濟高效的維護，該模塊易于更換，無需上門服務(wù)
PICOMASTER 直接激光刻錄機在可配置的平臺上工作，該平臺可以根據(jù)您的應(yīng)用或特定實驗室條件進行優(yōu)化，以滿足您的需求。PICOMASTER 可以是桌面或獨立系統(tǒng)，可以針對不同類型的抗蝕劑具有不同的激光波長，并且可以為各種應(yīng)用提供不同的光斑尺寸。如果需要，它可以與環(huán)境穩(wěn)定裝置結(jié)合使用。
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