目錄:孚光精儀（中國(guó)）有限公司>>激光微納加工系統(tǒng)>>紫外曝光機(jī)>> KLOE-UV-KUB3桌面型紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī)
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更新時(shí)間：2024-05-17 16:00:26瀏覽次數(shù)：1030評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),石油 |
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桌面型紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī)是全球shoukuan裝備有紫外LED光源的mask aligner,是掩膜對(duì)準(zhǔn)器中的理想冷光源紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī)。能夠在4英寸工作面積上實(shí)現(xiàn)2微米微結(jié)構(gòu)，對(duì)準(zhǔn)精度高達(dá)3微米，廣泛用于光刻掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光，適用于微流體芯片，微電子，光學(xué)微結(jié)構(gòu),MEMS等微納器件的光刻制作。
桌面型紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī)參數(shù)
分辨率：2微米
接收掩膜大?。?英寸 （2英寸可選）
接收襯底大?。?-4英寸， 50x50mm 到 100x100mm
系統(tǒng)可視分辨率：3微米 （1.5微米可選）
掩膜/襯底測(cè)量距離分辨率：0.5微米
theta襯底位移分辨率：5.10-4度
XYZ襯底位移分辨率：0.4微米（0.2微米可選）
波長(zhǎng)：365nm 或 405nm
功率密度：35mW/cm^2
曝光中襯底升溫：<1攝氏度
曝光時(shí)間：1秒到18小時(shí)
可編程曝光循環(huán)：>100個(gè)
尺寸：475x475x478mm
重量：55kg
觸摸屏：15.6寸彩色觸摸屏
電力要求：220V
用電功耗：180W
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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