低溫恒溫槽操作規(guī)程

低溫恒溫槽的操作使用：

1、恒溫槽使用前槽內(nèi)應(yīng)加入液體介質(zhì)，液面低于工作臺(tái)面30mm時(shí)不能開(kāi)機(jī)，以防燒壞加熱器。
2、使用電源為220VAC/50Hz，設(shè)備必須有良好的接地。
3、泵開(kāi)關(guān)和制冷開(kāi)關(guān)：控制面板上的循環(huán)泵強(qiáng)制開(kāi)關(guān)按鍵和制冷壓縮機(jī)強(qiáng)制開(kāi)關(guān)按鍵請(qǐng)不要去按，除非有特殊的需要。
3.1.如果按了循環(huán)泵強(qiáng)制開(kāi)關(guān)，循環(huán)泵會(huì)關(guān)閉。這樣槽內(nèi)的液體不同位置溫度將會(huì)不均勻，影響恒溫效果。此時(shí)可再按循環(huán)泵強(qiáng)制開(kāi)關(guān)開(kāi)啟循環(huán)泵。
3.2、 低溫恒溫槽 如果在溫度自動(dòng)控制的情況下按制冷壓縮機(jī)強(qiáng)制開(kāi)關(guān)按鍵，制冷壓縮機(jī)會(huì)關(guān)閉。由于自動(dòng)溫控時(shí)，制冷壓縮機(jī)處于常開(kāi)狀態(tài)，此時(shí)的溫度是靠自動(dòng)加熱來(lái)穩(wěn)定液體溫度，如果關(guān)閉壓縮機(jī)，將無(wú)法控制溫度。需要按啟動(dòng)鍵1秒，關(guān)閉設(shè)備。然后，再按啟動(dòng)鍵1秒后啟動(dòng)設(shè)備即可恢復(fù)溫度控制。
4. 恒溫槽 儀器應(yīng)安置于通風(fēng)干燥處，后背及兩側(cè)離開(kāi)障礙物300mm以上距離。
5.低溫恒溫槽使用完畢，電源開(kāi)關(guān)置關(guān)機(jī)狀態(tài)，拔下電源插頭。長(zhǎng)期不使用，應(yīng)放掉槽內(nèi)液體，并擦洗干凈。
6.在60℃以上高溫時(shí)，當(dāng)心碰著恒溫槽表面，以免燙手。

低溫恒溫槽正確使用和調(diào)修方法如下：
1.結(jié)構(gòu)：低溫恒溫槽結(jié)構(gòu)為金屬長(zhǎng)方形，采用冷軋鋼板精心制作外殼，不銹鋼內(nèi)膽，數(shù)顯溫控儀，電源，水泵均裝在控制盒內(nèi)。
2.用范圍：低溫恒溫槽適用于生物、化學(xué)、物理、植物、化工等科學(xué)上作精密恒溫的直接加熱制冷，和輔助加熱制冷之用。
3.使用方法：使用前，請(qǐng)仔細(xì)閱讀說(shuō)明書(shū)，熟悉儀器及控制面板部分，用兆歐表測(cè)量電源，插頭，接地是否有絕緣不良或短路情況。按溫度設(shè)定方法設(shè)定好實(shí)驗(yàn)溫度，待溫度恒定之后，即可開(kāi)始實(shí)驗(yàn)。本恒溫加熱解質(zhì)，使用蒸餾水，禁止使用河水和硬質(zhì)水，若用自來(lái)水，則應(yīng)在每次使用后，對(duì)恒溫鍋內(nèi)進(jìn)行一次清洗工作，防止加熱器上因積聚水垢而影響恒溫靈敏度。
4.設(shè)定溫度：按SET鍵可設(shè)定或查看溫度設(shè)定點(diǎn)。按一下SET鍵數(shù)碼管字符開(kāi)始閃動(dòng),表示儀表進(jìn)入設(shè)定狀態(tài),按△鍵設(shè)定值增加，按▽鍵設(shè)定值減小，長(zhǎng)按△鍵或▽鍵數(shù)據(jù)會(huì)快速變動(dòng)，再一次按SET鍵儀表回到正常工作狀態(tài)溫度設(shè)定完畢，即可開(kāi)啟加熱和循環(huán)泵開(kāi)關(guān)。
5.維修：如修調(diào)節(jié)器和更換加熱管時(shí)，只要拆下控

低溫恒溫槽的應(yīng)用領(lǐng)域：

循環(huán)水恒溫的應(yīng)用領(lǐng)域：
生化領(lǐng)域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學(xué)反應(yīng)器（合成器）等。材料領(lǐng)域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機(jī)、ICP刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗(yàn)機(jī)、化學(xué)沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。醫(yī)療領(lǐng)域：超導(dǎo)磁共振、直線加速器、CT、低磁場(chǎng)核磁共振、X光機(jī)、微波治療機(jī)、醫(yī)用冷帽、降溫毯等等。物化領(lǐng)域：激光器、磁場(chǎng)、各種分子泵、擴(kuò)散泵、離子泵以及包括材料領(lǐng)域。使用的各種需水冷設(shè)備。
低溫不凍液配比
A乙二醇水溶液：乙二醇/水 55/45 （－30℃）、70/30 （－40℃）
B丙三醇水溶液：丙三醇/水 70/30 （－30℃）使用中需經(jīng)常檢查低溫不凍液的密度使其滿足如下要求：1.乙二醇水溶液：P20=1079㎏/m3 （－30℃）（－40℃）2.丙三醇水溶液：P20=1182.6㎏/m3 （－30℃）不凍液用水代替時(shí)，其zui低溫度必須在0℃以上。
冷卻水選型相關(guān)：通常，制冷能力在1000W以下機(jī)型小型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛運(yùn)用小功率激光器、平行蒸發(fā)儀、平行定量濃縮儀、平行反應(yīng)器、蒸餾儀等實(shí)驗(yàn)室冷凝裝置等。制冷能力在6000W以下中型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應(yīng)用于AAS、ICP、ICP-MS、電鏡等分析儀器行業(yè)，旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、索氏提取、固液萃取儀、凱氏定氮儀等實(shí)驗(yàn)室設(shè)備，激光打標(biāo)機(jī)、激光切割機(jī)等激光儀器及機(jī)床行業(yè)。制冷能力在10KW以上大型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應(yīng)用于X－衍射儀、磁質(zhì)譜儀、疲勞試驗(yàn)機(jī)、真空鍍膜機(jī)、塑料成形設(shè)備、激光切割機(jī)、X－熒光光譜儀、紅外光譜儀、差熱分析儀、核磁共振等具有高制冷恒溫要求設(shè)備。
應(yīng)用范圍：
對(duì)半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：?jiǎn)尉磧艮D(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
對(duì)激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。
其他產(chǎn)業(yè)用機(jī)器發(fā)熱部分的冷卻：等離子熔接、自動(dòng)包裝機(jī)、模具冷卻、洗凈機(jī)械、鍍金槽、精密研磨機(jī)、射出成型機(jī)、樹(shù)脂成型機(jī)的成型部分等。
分析檢測(cè)機(jī)器的發(fā)熱部分的冷卻： 電子顯微鏡的光源、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分、分光光度計(jì)的發(fā)熱部分、X線解析裝置的熱源、自動(dòng)脈沖調(diào)幅器的發(fā)熱部分原子吸光光度計(jì)的光源等。水箱可用的純凈水在機(jī)內(nèi)外循環(huán)冷卻，可保證對(duì)水質(zhì)要求較高的精密儀器的正常運(yùn)行，延長(zhǎng)精密儀器的使用壽命。