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紫外光清洗的工作原理

紫外光清洗技術(shù)是利用有機(jī)化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除黏附在材料表面上的有機(jī)物質(zhì)，經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達(dá)到“原子清潔度"。更詳盡的講：UV光源發(fā)射波長為185nm和254nm的光波，具有很高的能量,當(dāng)這些光子作用到被清洗物體表面時,由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?85nm波長的紫外光具有較強(qiáng)的吸收能力,并在吸收185nm波長的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子，這就是所謂光敏作用。空氣中的氧氣分子在吸收了185nm波長的紫外光后也會產(chǎn)生臭氧和原子氧。臭氧對254nm波長的紫外光同樣具有強(qiáng)烈的吸收作用,臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的,在它作用下,物體表面上的碳和碳?xì)浠衔锏姆纸馕锟苫铣煽蓳]發(fā)的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表面，從而清除了黏附在物體表面上的碳和有機(jī)污染物。清洗時，使基板治濕性向上。玻璃基板是以滾輪方式輸送，上方裝置低壓水銀燈產(chǎn)生紫外線照射。玻璃基板所累積紫外線能量愈多，其表面水接觸愈小，成反比關(guān)系。一般STN-LCD制作過程中，需求的玻璃基板累積紫外線能量為300nj/cm2(253.7nm)以上。而彩STN-LCD及彩色濾光片制作過程中，要求的玻璃基板累積紫外線能量600mj/cm2(253.7nm)。

適用范圍

液晶顯示器件、觸摸屏、半導(dǎo)體硅芯片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料主要材料：ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅芯片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理?？梢匀コ酃福河袡C(jī)性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等使用紫外線清洗時要注意以下幾個方面：

（1） 污垢中的無極成分或處理后的灰分會殘留在物體表面，因此需要采用相應(yīng)的辦法進(jìn)一步清除，如加裝真空除塵或與超聲波干洗配套使用。（2）處理時，當(dāng)清洗對象表面與照射光源距離稍遠(yuǎn)時，產(chǎn)生的臭氧會自動分解失去作用，一定要注意清洗表面與光源的距離，也就是注意平臺或傳送帶上工件的高度或厚度。

（3）這種處理方法要求紫外線能透過清洗對象表面，對有立體結(jié)構(gòu)的清洗對象不太適合，只能清洗表面結(jié)構(gòu)的物體。

（4）由于需防止臭氧擴(kuò)散對人體造成損害，需要在封閉裝置中進(jìn)行清洗。

（5）由于臭氧是通過氧化反應(yīng)去除污垢的，所以容易被氧化的表面不能用這種方法處理。