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納米壓印系統(tǒng)是微納結(jié)構(gòu)制備的主要設(shè)備，需兼具熱壓印和紫外壓印兩種功能，而且可以快速的實現(xiàn)真空環(huán)境下的壓印，可以處理各種不同形狀、滿足處理直徑約10mm的模版和基片，實現(xiàn)大面積、性能穩(wěn)定超表面光學(xué)元件生產(chǎn)，并在國際上優(yōu)先探索并實現(xiàn)空間工程化應(yīng)用,進而提高應(yīng)衛(wèi)星激光通信終端小型化、輕量化水平，大幅度降低激光通信終端光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)鏡片及組件的尺寸，是今后激光通信終端的小型化和輕量化取得重大突破的關(guān)鍵技術(shù)之一。
納米壓印技術(shù)工藝：模板制造、壓印過程(包括模板處理、加壓、脫模過程)及圖形轉(zhuǎn)移過程。納米壓印精度和模板的精度直接相關(guān)；光刻膠材料影響著熱壓溫度和曝光時間；壓印過程中模板與壓印材料之間的對準、平行度、壓力均勻性、溫度均勻性、脫模技術(shù)等都會影響最終的產(chǎn)品質(zhì)量。在壓印后精細結(jié)構(gòu)檢測方面，一般需要檢測的項目包括：線寬、深度、缺陷、膜厚、粗糙度、翹曲度等，主要用到AFM、SEM、臺階儀、輪廓儀等設(shè)備。
納米壓印較傳統(tǒng)光刻技術(shù)可在采用較低成本的條件下大批量制備具有超高精度的圖形，同時也具有良好的均勻性和可重復(fù)性，此外可以傳統(tǒng)光刻工藝有很大程度的兼容性。納米壓印除了在集成電路領(lǐng)域有著非常廣闊的應(yīng)用前景，同時在光學(xué)領(lǐng)域納米壓印可用來制備周期小于光學(xué)波長的亞波長光柵。