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紫外UV臭氧清洗機(jī)的清洗是一個(gè)干燥的過程。而紫外臭氧清洗機(jī)內(nèi)會(huì)配備臭氧清除裝置，廢氣臭氧在系統(tǒng)內(nèi)分解，不會(huì)造成清潔室內(nèi)的臭氧含量過高從而產(chǎn)生危害。紫外臭氧清洗機(jī)也可配置成連續(xù)加載的清洗線，并可與DI水沖洗系統(tǒng)耦合，清除表面的顆粒。

紫外UV臭氧清洗機(jī)的工作原理，紫外線(UV)燈照射分為兩種波長(185和254 nm)。每個(gè)波長對(duì)化學(xué)反應(yīng)都有不同的作用。185nm紫外線將氧分子O2解離成三聯(lián)體原子氧O(3P)。三重原子氧O(3P)與氧分子氧O2結(jié)合生成臭氧O3。

另一方面，254納米紫外線分解臭氧O3，形成分子氧O2和單線態(tài)原子氧O(1D)。單線態(tài)原子氧(1D)具有較強(qiáng)的氧化能力，與基體表面發(fā)生反應(yīng)。在這個(gè)反應(yīng)中，表面被氧化在無機(jī)基板上，如硅片。在有機(jī)材料中，分子的鏈斷裂發(fā)生，有機(jī)殘留物污染物作為揮發(fā)性副產(chǎn)物分子如CO2、H2O和O2被輕易地去除，從而能夠有效地清除無機(jī)基材表面的有機(jī)污染物。

紫外UV臭氧清洗機(jī)應(yīng)用范圍較廣，在材料研究和器件制造等很多領(lǐng)域都有應(yīng)用?？梢杂糜诠杵退芰习b的表面清洗；用于在MOCVD和ALD工藝之前對(duì)III-V復(fù)合半導(dǎo)體晶圓片(如GaAs和InP)進(jìn)行表面清洗；用于玻璃、PDMS、PMMA、COC、COP等基材的直接清洗；適用于各類材質(zhì)表面的有機(jī)污染物清洗。