E+H雷達(dá)物位計FMR57-AAACCABDA6CHJ1 FMR51-AACCCABCD2CRJ+AK

測量條件• 出現(xiàn)沸騰表面、起泡表面或易生成泡沫液面時，使用FMR53 或FMR54 測量。根據(jù)泡沫的具體
成份，泡沫可以吸收微波，或微波在泡沫表面發(fā)生發(fā)射。在特定條件下測量仍可進(jìn)行。使用
FMR50、FMR51 和FMR52 測量時，建議選擇附加選項“高級動態(tài)響應(yīng)” (訂購選項540：“應(yīng)用
軟件包 ”，選型代號：EM)。
• 出現(xiàn)嚴(yán)重蒸汽或冷凝現(xiàn)象時，F(xiàn)MR50、FMR51 和FMR52 的大測量范圍可能會減小，取決于
蒸汽的密度、溫度和成份→使用FMR53 或FMR54 測量。
• 測量吸附性氣體(例如：氨氣NH3)或部分碳氟化合物 4)，請使用Levelflex 或Micropilot FMR54
在導(dǎo)波管中測量。
• 波束射至罐底的位置即為量程起點(diǎn)。特別是在圓盤底罐或帶錐形出料口的罐體中，物位低于此
點(diǎn)，便無法測量。
• 在導(dǎo)波管中測量時，電磁波不會*擴(kuò)散至導(dǎo)波管外部，應(yīng)將零點(diǎn)設(shè)置在導(dǎo)波管底部。在C 范
圍內(nèi)測量時，測量精度將降低。為了確保此類應(yīng)用場合中所需的測量精度，建議將零點(diǎn)設(shè)置在
導(dǎo)波管底部上方的C (如圖所示)。
• 測量低介電常數(shù)的介質(zhì)時(εr = 1.5…4) 5)， 如果介質(zhì)處于較低物位(低于C)，罐底可見。在此范
圍內(nèi)測量時，精度將降低。如無法接受，在此類應(yīng)用場合中，建議將零點(diǎn)設(shè)置在罐底上方的C
(如圖所示)。
• 理論上，大可測量至FMR51、FMR53 和FMR54 天線末端。但是，考慮腐蝕和粘附的影響，
大量程與天線末端間的距離不得小于A(如圖所示)。
• 使用帶平面天線的FMR54 測量時，特別是測量低介電常數(shù)的介質(zhì)時，大量程與法蘭間的距離
不得小A：1 m (3.28 ft)。
• 小測量范圍B 取決于天線類型(如圖所示)。
• 罐體高度應(yīng)至少為H (參考下表)。

E+H雷達(dá)物位計FMR57-AAACCABDA6CHJ1 FMR51-AACCCABCD2CRJ+AK

液位測量
應(yīng)用
• 液體、漿料和泥漿的連續(xù)、非接觸式液位測量
• PVDF 或PP 全密封喇叭天線
• 大測量范圍
• 溫度
• 壓力
• 測量精度
• 防爆認(rèn)證；WHG；船級認(rèn)證
• 線性協(xié)議(三點(diǎn)、五點(diǎn))
優(yōu)勢
• 介質(zhì)類型和過程條件改變時，仍可進(jìn)行可靠測量
• 數(shù)據(jù)管理，便于調(diào)試、維護(hù)和診斷
• 多路回路跟蹤確保高可靠性
• 認(rèn)證，符合IEC 61508 標(biāo)準(zhǔn)；同構(gòu)冗余或異構(gòu)冗余系統(tǒng)的安全等級可達(dá)
• 無縫集成至控制系統(tǒng)或資產(chǎn)管理系統(tǒng)中
• 本國語言顯示的直觀用戶界面
• 符合SIL 和WHG 要求的簡便的功能驗證