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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器用于電子束蒸發(fā)器，具有高效、緊湊的4通道，具備共蒸發(fā)能力。迷你電子束蒸發(fā)器能夠在沉積常見(jiàn)工藝金屬（如金、銀和鉻）時(shí)提供佳的控制力，并且與熱舟源相比，對(duì)基底和周圍環(huán)境的熱負(fù)荷極小。
詳細(xì)介紹
Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器用于電子束蒸發(fā)器，具有高效、緊湊的4通道，具備共蒸發(fā)能力。迷你電子束蒸發(fā)器能夠在沉積常見(jiàn)工藝金屬（如金、銀和鉻）時(shí)提供佳的控制力，并且與熱舟源相比，對(duì)基底和周圍環(huán)境的熱負(fù)荷極小。
這種技術(shù)利用電子束直接蒸發(fā)棒狀材料，或者通過(guò)加熱偏置坩堝間接蒸發(fā)材料。當(dāng)從坩堝蒸發(fā)時(shí)，部分準(zhǔn)直的電子束在材料利用率方面比傳統(tǒng)電子束蒸發(fā)器或熱舟源更具優(yōu)勢(shì)，尤其是在處理昂貴材料時(shí)。
主動(dòng)冷卻的銅頭設(shè)計(jì)使得在運(yùn)行過(guò)程中幾乎不產(chǎn)生放氣，而封閉的蒸發(fā)槽可以吸收大部分輻射熱，從而進(jìn)一步降低對(duì)基底的熱負(fù)荷。Evap-4非常適合在溫度敏感的基底上沉積精確的薄膜涂層。Evap-4配備了通量板，用于測(cè)量源材料發(fā)出的離子通量，并提供沉積速率的獨(dú)立測(cè)量。
Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器可在一個(gè)單元內(nèi)控制多達(dá)4個(gè)蒸發(fā)槽，并提供兩種控制模式：
- 燈絲電流控制：用戶直接調(diào)節(jié)燈絲電流。
- 功率控制：用戶設(shè)置功率設(shè)定點(diǎn)，電源會(huì)自動(dòng)調(diào)節(jié)燈絲電流以達(dá)到所需的功率。
規(guī)格參數(shù)
- 安裝法蘭：NWCF63
- 真空內(nèi)長(zhǎng)度：標(biāo)準(zhǔn)300毫米（可定制長(zhǎng)度）
- 真空內(nèi)直徑：57毫米
- 坩堝體積：1000毫米3（1立方厘米）
- 坩堝材料：鉬（Mo）、鎢（W）、石墨（Gr）
- 坩堝襯里：氧化鋁（Al?O?）、氮化硼（PBN）
- 超高真空（UHV）兼容性：是，可烘烤至250°C
- 冷卻液流量：Min1.0升/分鐘
- 快門(mén)：手動(dòng)或可選氣動(dòng)執(zhí)行器
- 功率：?jiǎn)蜗?00-240伏交流電，50/60赫茲