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產(chǎn)品簡介
Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)是一個緊湊且靈活的PVD（物理氣相沉積）系統(tǒng)，具備薄膜、納米顆粒和合金沉積能力。該系統(tǒng)有兩種型號：375型（最多可容納五個源，基底直徑可達(dá)四英寸）和300型（最多可容納四個源，基底直徑可達(dá)兩英寸）。由于其體積相對較小，真空腔體的抽真空速度較快，周轉(zhuǎn)時間約為30分鐘。
詳細(xì)介紹
Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)是一個緊湊且靈活的PVD（物理氣相沉積）系統(tǒng)，具備薄膜、納米顆粒和合金沉積能力。該系統(tǒng)有兩種型號：375型（最多可容納五個源，基底直徑可達(dá)四英寸）和300型（最多可容納四個源，基底直徑可達(dá)兩英寸）。由于其體積相對較小，真空腔體的抽真空速度較快，周轉(zhuǎn)時間約為30分鐘。
Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)可兼容多種源，包括磁控濺射源、納米顆粒源、小型電子束源、熱舟源以及原子和離子源。系統(tǒng)可以配置為向上濺射或向下濺射模式。此外，還提供基底旋轉(zhuǎn)、偏壓以及最高可達(dá)800℃的加熱選項。
真空腔體在英國制造，采用高質(zhì)量的304不銹鋼材質(zhì)，并配有輕質(zhì)鋁制門。它安裝在一個系統(tǒng)機架上，該機架包含控制系統(tǒng)、電源和真空泵。整個系統(tǒng)配備輪子以便移動，并在定位后可鎖定腳部以固定位置。
集成的PC和多功能Spectrum軟件提供了無縫的用戶體驗，使客戶能夠遠(yuǎn)程控制該系統(tǒng)并運行復(fù)雜的工藝配方。
關(guān)鍵特性：
· 可用的源包括磁控濺射源、納米粒子源、小型電子束源、熱舟蒸發(fā)源、原子源和離子源。
· 提供向上濺射或向下濺射配置。
· 提供旋轉(zhuǎn)、偏壓以及高達(dá)800℃的加熱選項。
· 周轉(zhuǎn)時間約為45分鐘。
· 真空度可達(dá)5×10??托。
· 系統(tǒng)機架包含控制系統(tǒng)、電源和泵。
· 集成的個人電腦配備Spectrum軟件，可實現(xiàn)自動化過程控制、復(fù)雜配方和數(shù)據(jù)記錄。
The Cube系統(tǒng)配置：
項目 | Cube 300 | Cube 375 |
沉積腔尺寸 | 300×300×300 mm | 375×375×375 mm |
基礎(chǔ)真空度 | <1×10??托 | <5×10??托 |
濺射方向 | 向下濺射/向上濺射 | 向下濺射/向上濺射 |
樣品臺 | 2英寸晶圓，20轉(zhuǎn)/分鐘旋轉(zhuǎn)，射頻/直流偏壓和加熱至400℃ | 4英寸晶圓，20轉(zhuǎn)/分鐘旋轉(zhuǎn)，射頻/直流偏壓和加熱至800℃ |
抽真空系統(tǒng) | 80升/秒渦輪分子泵配7.2立方米/小時干式前級泵 | 300升/秒渦輪分子泵配7.2立方米/小時干式前級泵 |
閥門 | 手動/自動閥門、快門、直線驅(qū)動和抽真空擋板閥 | 手動/自動閥門、快門、直線驅(qū)動和抽真空擋板閥 |
控制軟件 | 配方驅(qū)動過程、電源控制和數(shù)據(jù)記錄 | 配方驅(qū)動過程、電源控制和數(shù)據(jù)記錄 |
原位監(jiān)測 | 石英晶體微量天平用于過程監(jiān)測和終點檢測 | 石英晶體微量天平用于過程監(jiān)測和終點檢測 |
源端口 | 最多4個沉積源 | 最多5個沉積源 |
源類型 | 納米粒子源、磁控濺射源、小型電子束蒸發(fā)源、熱舟蒸發(fā)源、K型離子源、射頻原子源 | 納米粒子源、磁控濺射源、小型電子束蒸發(fā)源、熱舟蒸發(fā)源、K型離子源、射頻原子源 |
涂層均勻性 | ±2%（樣品旋轉(zhuǎn)時） | |