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產(chǎn)品簡介
Nanosystem NV-1000白光干涉儀是利用白光干涉特性來進(jìn)行表面形貌的測量，它結(jié)合了典型的WSI非常高的垂直分辨率和一個(gè)非常大的面積高達(dá)21.7毫米x16.3毫米。這使得高精度和大面積快速測量成為可能，而無需縫合。
詳細(xì)介紹
Nanosystem NV-1000白光干涉儀
WSI白光干涉/PSI相位干涉測量檢測設(shè)備，利用白光干涉現(xiàn)象以及干涉信號處理方式，高精度真實(shí)還原測量物體的輪廓原貌，解決了測量高精度物體時(shí)，只能破壞測量物做切片的難題。
設(shè)備測量應(yīng)用涵蓋晶圓，液晶，等離子顯示板，半導(dǎo)體，透鏡曲率測量，印刷電路板等方面。縱向測量精度高達(dá)0.5nm/0.1nm（WSI/PSI）以下，平面測量精度高達(dá)到7.4nm以下。其高精度，廣領(lǐng)域度，客戶體驗(yàn)度，受到了高精制造行業(yè)的喜愛。
設(shè)備原理
WSI白光干涉和PSI相位干涉原理雖然測量原理不同，但是除了使用單頻光和多頻光這一點(diǎn)不同外，使用同樣的光學(xué)和測量系統(tǒng)，因此可以在同一設(shè)備上進(jìn)行使用。
兩種測量方法共同的特征是利用干涉信號進(jìn)行處理。干涉信號是從任意光源同時(shí)出發(fā)的兩束光通過不同的光路后疊加時(shí)，根據(jù)兩束光的光路距離差產(chǎn)生明暗相間的物理現(xiàn)象。WSI/PSI設(shè)備正是使用了以上原理進(jìn)行測量。
WSI測量原理
WSI（White-LightScannng Interferometry）的特征
-在掃描范圍內(nèi)持續(xù)掃描后進(jìn)行測量。
-在允許掃描的范圍內(nèi)可以測量高度。
PSI測量原理
PSI（Phase ShiftingInterferometry）測量原理
PSI的特征
-中心波長（大約600nm）的1/4為間隔，進(jìn)行4回掃描后測量。
-與掃描范圍無關(guān)，只能測量250nm以下的高度。
Nanosystem NV-1000白光干涉儀技術(shù)參數(shù)：
干涉物鏡：單透鏡可選
掃描范圍：0-180um（270um可選）
垂直分辨率：WSI：﹤0.5nm ，PSI ：﹤0.1nm
傾斜臺：±3°
Z軸行程：30mm（手動）
工作臺面：50X50mm（手動）