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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
Nanosystem NVF-2700 非接觸式3D輪廓儀，通過(guò)非接觸式的方法對(duì)0.1nm-270nm的3維表面形貌進(jìn)行高進(jìn)度和高速測(cè)量。利用物鏡轉(zhuǎn)臺(tái)可方便的進(jìn)行放大倍數(shù)的轉(zhuǎn)換。使用拼接功能可分析寬廣的表面。
詳細(xì)介紹
Nanosystem NVF-2700 非接觸式3D輪廓儀通過(guò)的技術(shù)力對(duì)多樣研究所有的表面提供優(yōu)化解決方案。所有的功能實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)快速運(yùn)轉(zhuǎn)。
NVF-2700可以快測(cè)量所有表面的測(cè)量?jī)x，利用持有的白光干涉儀WSI和相應(yīng)算法開(kāi)發(fā)的產(chǎn)品。X，Y，Z軸全部設(shè)計(jì)為全自動(dòng)，通過(guò)可調(diào)節(jié)F.O.V鏡頭，自動(dòng)構(gòu)成多樣的倍率。此產(chǎn)品專為研究所，大學(xué)和工藝管理而制作的產(chǎn)品。此設(shè)備可以通過(guò)拼接（Stitching）功能可以進(jìn)行大面積（500?）測(cè)量。
得到的WSI/PSI技術(shù)，只需要表面有1%的反射率即可測(cè)量，表面現(xiàn)象中的高度，寬度，幅度，粗糙度(Ra, Rq, Rz, Rt, etc)等各種項(xiàng)目均可測(cè)量。
此外，WSI的高度分辨率為0.1nm，2秒鐘時(shí)間即可掃描所有的表面，在不破壞樣品的情況下,可測(cè)定0.1nm到1000um的樣品，均可觀察2D/3D的現(xiàn)象。不僅如此，更是保障了0.1%(1σ)世界水準(zhǔn)的重復(fù)性，本公司保有的技術(shù)可應(yīng)用于 PCB, display, engineering part, chemical material, optical parts, bio, R&D等方面。
NVF-2700的優(yōu)點(diǎn)
· 優(yōu)良的測(cè)量精度
· 抗振動(dòng)設(shè)計(jì)
· 快速測(cè)量速度
· 友好的測(cè)量界面
· Stitching功能
· 2D和3D多功能性能
主要功能
· 3D 形貌測(cè)量
· 粗糙度 (ISO 25178) 和平整度 (選項(xiàng))
· 高度，深度，寬度(從亞納米到10mm)·
· 面積信息(體積，面積)
· 2D和3D 測(cè)量
特點(diǎn)
Fast ,Reliable, Fine = Reducing R & D Time
納米級(jí)的幾何光學(xué)測(cè)量
粗糙度，段差，細(xì)微形貌，薄膜表面
Full range scan只需要兩秒! 掃描速度Max. 116μm/S
兩步A/F簡(jiǎn)單準(zhǔn)備的全自動(dòng)聚焦
ISO Roughness參數(shù)（ISO25178/12781/4287等）
可一次性分析透明薄膜厚度及內(nèi)部形貌（選購(gòu)）
產(chǎn)品規(guī)格：
測(cè)量方法：白光掃描干涉法/相移干涉法
FOV鏡頭：4位電動(dòng)轉(zhuǎn)塔，可加裝F.O.V（選項(xiàng)）
干涉物鏡：5物鏡可選(程控）
光源：白光LED照明
掃描范圍：≤270um（PZT）
掃描速度：12μm/sec (1x~5x用戶可選)
垂直分辨率：WSI：﹤0.5nm ，PSI ：﹤0.1nm
橫向分辨率：0.2-4μm（取決于物鏡和FOV）
臺(tái)階高度重復(fù)性：0.1％@1σ (標(biāo)準(zhǔn)8um臺(tái)階樣品)
傾斜度：±6°
XY行程：100mmX100mm
工作臺(tái)尺寸： 230X230mm（程控）
選項(xiàng)
FOV鏡頭： 0.5X，0.75X，1X，1.5X，2X(可選)
干涉物鏡：2.5x, 5x, 10x, 20x, 50x, 100x (可選)
掃描范圍：多達(dá)可達(dá)10mm（電機(jī)掃描選項(xiàng)）