化工儀器網(wǎng)
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
帕克Park NX20，這款精密的大型樣品原子力顯微鏡，憑借著出色的數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性，在半導(dǎo)體和超平樣品行
業(yè)中大受贊揚(yáng)。
業(yè)中大受贊揚(yáng)。
詳細(xì)介紹
缺陷分析的理想選擇
作為一款缺陷形貌分析的精密測(cè)量?jī)x器，其主要目的是對(duì)樣品進(jìn)行缺陷檢測(cè)。而儀器所提供的數(shù)據(jù)不能允許任何錯(cuò)誤的存在。Park NX20，這款精密的大型樣品原子力顯微鏡，憑借著出色的數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性，在半導(dǎo)體和超平樣品行業(yè)中大受贊揚(yáng)。
強(qiáng)大全面的分析功能
可快速幫助客戶找到產(chǎn)品失效的原因，并幫助客戶制定出更多具有創(chuàng)意的解決方案。的精密度為您帶來(lái)高分辨率數(shù)據(jù)，讓您能夠更加專注于工作。與此同時(shí)，真正非接觸掃描模式讓探針*更耐用，無(wú)需為頻繁更換探針而耗費(fèi)大量的時(shí)間和金錢。
凝聚著創(chuàng)新的AFM技術(shù)
1. 100 μm x 100 μm掃描范圍的XY平板掃描器
XY平板掃描器，采用壓電堆棧設(shè)計(jì)，減少傳統(tǒng)掃描過(guò)程中XY的正交影響，具有高速的響應(yīng)頻率，實(shí)現(xiàn)精確的樣品納米級(jí)掃描。
即便是*次接觸原子顯微鏡的工程師也易于操作
ParkNX20擁有業(yè)界便捷的設(shè)計(jì)和自動(dòng)界面，讓你在使用時(shí)無(wú)需花費(fèi)大量的時(shí)間和精力，也不用為此而時(shí)時(shí)不停的指導(dǎo)初學(xué)者。借助這一系列特點(diǎn)，您可以更加專注于解決更為重大的問(wèn)題，并為客戶提供及時(shí)且富有洞察力的失效分析報(bào)告。
Park NX20 可以滿足科研工作者需要的多種掃描模式，并能滿足您的所有研究需求。
表面粗糙度測(cè)量
真正非接觸模式
D輕敲模式
電學(xué)性能測(cè)量
導(dǎo)電AFM (ULCA和VECA)
靜電力顯微鏡(EFM)
壓電力顯微鏡（PFM）
掃描電容顯微鏡(SCM)
掃描開(kāi)爾文探針顯微鏡 (SKPM)
掃描電阻顯微鏡(SSRM)
掃描隧道顯微鏡(STM)
光電流顯微鏡(Tr-PCM)
機(jī)械性能測(cè)量
力調(diào)制顯微鏡(FMM)
力-距離(F-D) 曲線
力譜成像
側(cè)向力顯微鏡（LFM）
納米壓痕
納米刻蝕
相位成像
材料性能研究
SCM快速掃描成像
PinPoint 導(dǎo)電原子力成像
磁力顯微鏡（MFM）
高級(jí)選項(xiàng)
定制您*的原子力顯微鏡
自動(dòng)數(shù)據(jù)收集和分析，適合工業(yè)客戶產(chǎn)線測(cè)量
Park 的自動(dòng)化控制軟件，根據(jù)你的預(yù)設(shè)程序，自動(dòng)進(jìn)行AFM測(cè)量。它可以準(zhǔn)確地收集數(shù)據(jù)，
執(zhí)行模式識(shí)別，并使用它的尋邊器和光學(xué)模塊進(jìn)行分析，不需要人工介入，為您節(jié)省測(cè)量時(shí)間。
傾斜樣品傾角夾具，可以幫助您進(jìn)行樣品側(cè)壁成像
NX20 的創(chuàng)新架構(gòu)讓您可以檢測(cè)樣品的側(cè)壁和表面，并測(cè)量它們的角度。這項(xiàng)設(shè)計(jì)賦予了這個(gè)單位更
多的靈活性，使你可以做更多的創(chuàng)新研究和獲得更深的見(jiàn)解。
傾斜角度:10°、15°和 20°
樣品尺寸:20 mm x 20 mm
樣本厚度:2 mm
嵌入主動(dòng)溫度控制的隔音罩可以讓您采取更精確的測(cè)量
創(chuàng)新設(shè)計(jì)使系統(tǒng)快速達(dá)到其溫度平衡。
10分鐘內(nèi)使測(cè)試環(huán)境溫差小于0.05℃。
集成式主動(dòng)減震臺(tái)，優(yōu)于老式的氣動(dòng)平臺(tái)，減震效果更佳。
閉環(huán)控制電動(dòng)位移臺(tái)
XY載臺(tái)馬達(dá)位移機(jī)械分辨率為1 μm，重復(fù)率為2 μm。
Z向馬達(dá)位移分辨率為0.1 μm，重復(fù)率為1 μm。
樣品盤
芯片樣品盤
真空吸附盤
Max晶圓盤200mm
探針夾具
固定掃描探針
可進(jìn)行電學(xué)性能測(cè)試
針尖電壓: -10 V ~ +10 V
XY 掃描器
20 μm x 20 μm
50 μm x 50 μm
100 μm x 100 μm
Z 掃描器
15 μm
30 μm
精確的溫度控制
加熱和冷卻臺(tái)(0 ~ 180oC)
250oC加熱臺(tái)
600oC加熱臺(tái)
Park NX20 技術(shù)參數(shù)
掃描器
XY掃描器
閉環(huán)控制XY平板掃描器
掃描范圍:
100 μm × 100 μm
50 μm × 50 μm
25 μm × 25 μm
20位位置控制和24位位置傳感器
Z掃描器
導(dǎo)向強(qiáng)力Z掃描器
掃描范圍：15 μm-30 μm
20位位置控制和24位位置傳感器
視場(chǎng)&CCD
同軸光源設(shè)計(jì)
10倍光學(xué)物鏡和數(shù)碼放大
光學(xué)物鏡視場(chǎng): 840 μm × 630 μm
CCD:5MP
光學(xué)物鏡
10× (0.21 NA) 超長(zhǎng)工作距離鏡頭的物鏡
20× (0.42 NA) 高分辨率，長(zhǎng)工作距離鏡頭的物鏡
軟件
系統(tǒng)控制和數(shù)據(jù)采集軟件
智能掃描模式
通過(guò)外部程序控制腳本級(jí)別（選配）
AFM數(shù)據(jù)分析軟件
電性能信號(hào)處理
ADC: 18 通道
ADC通道 (64 MSPS)
24-bit ADC 的 X, Y 和 Z 掃描器位置傳感器
DAC:12通道
ADC通道 (64 MSPS)
20-bit DAC的 X, Y 和 Z 掃描器定位
大數(shù)據(jù)量：4096 x 4096像素
集成功能
3通道數(shù)字鎖相放大器
探針彈性系數(shù)校準(zhǔn)(熱方法)
數(shù)據(jù)Q控制
選項(xiàng)/模式
成像模式
真正非接觸模式
接觸模式
側(cè)向摩擦力顯微術(shù) （LFM)
相位成像
輕敲模式
電學(xué)特性測(cè)量
掃描電容顯微鏡(SCM)
導(dǎo)電原子力顯微鏡
靜電力顯微鏡 （EFM)
壓電力顯微鏡 （PFM)
掃描開(kāi)爾文探針顯微鏡 （SKPM/KPM)
壓電力顯微鏡PFM
一般特性
磁力顯微鏡 （MFM)
掃描熱感顯微鏡(SThM)
力－距離（F-D)曲線
掃描隧道顯微鏡(STM)
力調(diào)制顯微鏡(FMM)
納米壓痕
納米刻蝕
納米操縱
選項(xiàng)
樣品基座
據(jù)有溫控性能的隔音罩
液體探手
液池
溫控臺(tái)
外部偏置模塊
信號(hào)獲取模塊
運(yùn)動(dòng)位移平臺(tái)
XY行程范圍： 150 mm (200 mm選配）
Z行程范圍： 25 mm
XY載臺(tái)馬達(dá)位移機(jī)械分辨率為1 μm，重復(fù)率為2 μm。
Z向馬達(dá)位移分辨率為0.1 μm，重復(fù)率為1 μm。
樣品基座
樣品Max尺寸： 150 mm (200 mm 選配）
真空樣品吸附
外部信號(hào)訪問(wèn)
20個(gè)嵌入式輸入/輸出端口
5個(gè)TTL輸出： EOF, EOL, EOP, Modulation,and AC bias