Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)是一個緊湊且靈活的PVD（物理氣相沉積）系統(tǒng)，具備薄膜、納米顆粒和合金沉積能力。該系統(tǒng)有兩種型號：375型（最多可容納五個源，基底直徑可達四英寸）和300型（最多可容納四個源，基底直徑可達兩英寸）。由于其體積相對較小，真空腔體的抽真空速度較快，周轉時間約為30分鐘。

Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)是一個緊湊且靈活的PVD（物理氣相沉積）系統(tǒng)，具備薄膜、納米顆粒和合金沉積能力。該系統(tǒng)有兩種型號：375型（最多可容納五個源，基底直徑可達四英寸）和300型（最多可容納四個源，基底直徑可達兩英寸）。由于其體積相對較小，真空腔體的抽真空速度較快，周轉時間約為30分鐘。

Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)可兼容多種源，包括磁控濺射源、納米顆粒源、小型電子束源、熱舟源以及原子和離子源。系統(tǒng)可以配置為向上濺射或向下濺射模式。此外，還提供基底旋轉、偏壓以及最高可達800℃的加熱選項。

真空腔體在英國制造，采用高質量的304不銹鋼材質，并配有輕質鋁制門。它安裝在一個系統(tǒng)機架上，該機架包含控制系統(tǒng)、電源和真空泵。整個系統(tǒng)配備輪子以便移動，并在定位后可鎖定腳部以固定位置。

集成的PC和多功能Spectrum軟件提供了無縫的用戶體驗，使客戶能夠遠程控制該系統(tǒng)并運行復雜的工藝配方。

 

關鍵特性：

·         可用的源包括磁控濺射源、納米粒子源、小型電子束源、熱舟蒸發(fā)源、原子源和離子源。

·         提供向上濺射或向下濺射配置。

·         提供旋轉、偏壓以及高達800℃的加熱選項。

·         周轉時間約為45分鐘。

·         真空度可達5×10??托。

·         系統(tǒng)機架包含控制系統(tǒng)、電源和泵。

·         集成的個人電腦配備Spectrum軟件，可實現自動化過程控制、復雜配方和數據記錄。

 

The Cube系統(tǒng)配置：