精細工藝，從光刻膠開始

光刻膠，又稱光致抗蝕劑，一種特殊的光敏物質，是微電子和半導體制造中不可或缺的材料，同時也是集成電路制造的核心耗材。它不僅關系到產品的最終性能，更是成品率和可靠性的決定性因素。

在半導體光刻工藝流程中，包括了脫水烘烤、旋轉涂膠、軟烘、曝光、曝光后烘烤、顯影、堅膜烘烤、顯影檢查等環(huán)節(jié)，只有使用固含量合適的光刻膠，才能確保上述流程順利進行。

比如，在旋轉涂膠的環(huán)節(jié)中，如果使用了固含量偏高的光刻膠，就會導致涂布后形成相對較厚的薄膜；反之，則會形成較薄的涂膜，直接影響了圖案的精細程度和分辨率。又比如，在顯影環(huán)節(jié)，如果選用了固含量較高的光刻膠，則會大幅增加所需的顯影時間，降低了生產效率的同時，也會更容易導致光刻膠曝光后發(fā)生形變或收縮，導致圖案的失真和變形。

因此，對于光刻膠研發(fā)生產企業(yè)來說，只有準確快速地測試光刻膠固含量，才能確保產品質量合格，并符合客戶要求。然而，如果使用傳統(tǒng)的烘箱，則會面臨光刻膠在進出烘箱時吸水，導致測試結果不準、測試效率低（通常需要數小時）的問題，無法完全滿足實驗需求，耽誤生產及研發(fā)進度，給客戶帶來損失。

面對這樣的挑戰(zhàn)，梅特勒托利多超越系列快速水份測定儀則能完美解決這些問題，同時確保絕佳的測試重復性，助您輕松應對光刻膠的固含量測定。

光刻膠固含量測定新革命

梅特勒托利多超越系列快速水份測定儀具有溫和升溫功能，在設定的時間內緩慢升溫至設定的溫度，最大化降低有機溶劑冷凝回流的發(fā)生概率，也防止光刻膠表面結膜，確保測試結果的準確性。

 

 

 

梅特勒托利多超越系列快速水份測定儀采用環(huán)形鹵素燈加熱，確保樣品始終均勻受熱；測試過程中，稱重傳感器不斷記錄樣品重量，并自動判斷恒重；測試結束后，屏幕上自動顯示最終固含量結果，無需人工計算，避免出錯。與傳統(tǒng)的烘箱相比，用快速水份測定儀還能避免出現樣品在進出烘箱時吸收實驗室空氣中水份的情況，確保測試結果始終準確。