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當前位置：上海添時科學儀器有限公司>>制膜設(shè)備>>磁控濺射鍍膜>> VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀
1、可選一個靶槍，配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜或配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。
3、體積小，操作簡便。
技術(shù)參數(shù)：
| 產(chǎn)品名稱 | VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀 |
| 產(chǎn)品型號 | VTC-600-1HD |
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 |
| 1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） | |
| 2、電：AC220V 50Hz,必須有良好接地 | |
| 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上）,需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套接頭）及減壓閥 | |
| 4、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 | |
| 5、通風裝置：需要 | |
| 主要參數(shù) | 1、電源電壓：220V 50Hz |
| 2、功率：<1KW（不含真空泵） | |
| 3、極限真空度：9.0×10-4Pa | |
| 4、樣品臺加熱溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實際需要提升溫度） | |
| 5、靶槍數(shù)量：1個（可選配其他數(shù)量） | |
| 6、靶槍冷卻方式：水冷 | |
| 7、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） | |
| 8、直流濺射功率：500W;射頻濺射功率：300W.（靶電源種類可選,可選擇直流或射頻電源） | |
| 9、載樣臺：Ø140mm,可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能,以實現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜。 | |
| 10、載樣臺轉(zhuǎn)速：1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào) | |
| 11、工作氣體：Ar等惰性氣體 | |
| 12、進氣氣路：質(zhì)量流量計控制2路進氣,一路為100SCCM,另一路為200SCCM。 | |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 1、主機尺寸：500mm×560mm×660mm |
| 2、整機尺寸：1300mm×660mm×1200mm | |
| 3、重量：160kg | |
| 4、真空室規(guī)格：φ300×300mm | |
| 標準配件 | 1、直流電源控制系統(tǒng)1套（可選） |
| 2、射頻電源控制系統(tǒng)1套（可選） | |
| 3、冷水機1臺 | |
| 4、冷卻水管（Ø6mm）4根 | |
| 可選配件 | 1、金、銦、銀、白金等各種靶材 |
| 2、膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng) | |
| 3、分子泵（德國進口） |
