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靜電紡絲-介孔/多孔PCL聚己內酯纖維薄膜
靜電紡絲是基于壓靜電場下導電流體產(chǎn)生速噴射的原理而來，其基本過程是：聚合物溶液或熔體在幾千至幾萬伏的壓靜電場下克服表面張力而產(chǎn)生帶電噴射流，溶液或熔體射流在噴射過程中干燥，并保持一定電荷量，終落在接收集上形成纖維。
靜電紡絲制得的纖維直徑一般在數(shù)十納米到數(shù)微米之間。
靜電紡絲-介孔/多孔PCL聚己內酯纖維薄膜
運用靜電紡絲技術,地制備了由大長徑比纖維絲組成的具有大比表面積的PCL纖維膜。以電紡PCL纖維膜為填充相,以環(huán)氧樹脂和硅橡膠材料為基體,運用模板法制備了兩種復合材料—PCL/環(huán)氧樹脂和PCL/硅橡膠。對上述制備的材料進行研究發(fā)現(xiàn),PCL/環(huán)氧樹脂復合材料兼有自愈性能和形狀記憶效應,PCL/硅橡膠材料也具有的形狀記憶效應。
介孔PCL納米纖維膜-孔徑20um
靜電紡絲聚已內酯纖維薄膜-大孔
多孔PCL聚已內酯聚合物納米纖維膜
孔徑20umPCL納米纖維膜-生物可降解組織支架
多孔PCL納米纖維膜
介孔聚已內酯纖維薄膜
不同取向度纖維狀PCL聚已內酯薄膜
PS聚苯乙烯纖維網(wǎng)格圓盤
PS聚苯乙烯纖維復合網(wǎng)格
組織工程3D網(wǎng)格支架-PS聚苯乙烯材質
聚苯乙烯PS-3D網(wǎng)格支架
聚苯乙烯PS-不同纖維直徑網(wǎng)格圓盤支架
PS納米纖維網(wǎng)格濾片150nm
PS納米纖維網(wǎng)格濾片300nm
PS納米纖維薄膜網(wǎng)格濾片150nm
PS納米纖維薄膜網(wǎng)格濾片300nm
PS納米纖維內嵌網(wǎng)格濾片150nm
PLA納米纖維網(wǎng)格膜片150nm
PLA納米纖維網(wǎng)格膜片300nm
PLA納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片150nm
PLA納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片300nm
PLA納米纖維內嵌網(wǎng)格膜片150nm
PCL納米纖維網(wǎng)格膜片150nm
PCL納米纖維網(wǎng)格膜片300nm
PCL納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片150nm
PCL納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片300nm
PCL納米纖維內嵌網(wǎng)格膜片150nm
開放式孔構薄膜PCL納米纖維500nm
開放式孔構薄膜PCL納米纖維200nm
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