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VTC-5RF五靶頭等離子射頻磁控濺射儀

產(chǎn)品概述：

VTC-5RF五靶頭等離子射頻磁控濺射儀是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀，針對(duì)于高通量MGI（材料基因組計(jì)劃）薄膜的研究。特別適合用于探索固態(tài)電解質(zhì)材料，通過(guò)5種元素，按16種不同配比組合。

主要特點(diǎn)：

• 多種濺射靶頭及電源可選，自由組合，具體請(qǐng)致電我公司銷售部。 
• 根據(jù)所使用的電源（DC或RF），可以沉積金屬或非金屬材料。 
• 一個(gè)旋轉(zhuǎn)開(kāi)關(guān)可以依次激活濺射頭，可在真空或等離子體環(huán)境中自動(dòng)切換，不影響真空度。 
• 可以安裝五種不同材料的靶材，每個(gè)靶頭可單獨(dú)設(shè)置濺射時(shí)間功率等參數(shù)，用于生長(zhǎng)不同成分的薄膜。 
• 可選購(gòu)多個(gè)射頻電源，同一時(shí)間濺射多個(gè)靶材。 
• 可選配設(shè)備控制軟件，用電腦控制濺射的所有參數(shù)。

濺射腔體：

• 真空腔體采用304不銹鋼制作 
• 腔體內(nèi)部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H  (105 L) 
• 鉸鏈?zhǔn)角婚T(mén)，直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃窗口

濺射頭&樣品臺(tái)：

• 5個(gè)1英寸的磁控濺射頭，帶有水冷夾層
• 濺射腔體內(nèi)安裝有電動(dòng)擋板 
• 濺射距離:濺射距離可調(diào)
• 濺射角度:濺射角度可調(diào) 
• 實(shí)驗(yàn)時(shí)，需要將靶材和靶材的銅墊片用導(dǎo)電銀漿粘合粘合，（可在本公司購(gòu)買(mǎi)導(dǎo)電銀漿） 
• 可以單獨(dú)訂購(gòu)RF連接線作為備用
• 設(shè)備需要一臺(tái)水冷機(jī)，用于靶頭冷卻

樣品臺(tái)：

• 直徑為150mm的樣品臺(tái)，上面覆蓋一旋轉(zhuǎn)臺(tái)，帶有10mm的孔洞，每次露出一個(gè)樣品接收濺射成膜。 
• 樣品臺(tái)尺寸：Φ150mm,可通過(guò)程序控制來(lái)旋轉(zhuǎn)，可制作16種不同組分的薄膜 
• 樣品臺(tái)可以加熱，高溫度可達(dá)600℃（根據(jù)配置不同可能會(huì)有變動(dòng)，具體請(qǐng)咨詢銷售部）

真空系統(tǒng)：

• 安裝有KF40真空接口 
• 真空度：4.0e-5Torr(分子泵）（參考值，具體請(qǐng)點(diǎn)擊） 
• 可在本公司選購(gòu)各種真空泵

進(jìn)氣：

• 設(shè)備上配1/4英寸進(jìn)氣口方便連接氣瓶 
• 設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕，方便調(diào)節(jié)氣流

靶材：

• 所要求靶材尺寸：直徑為25mm,大厚度3mm 
• 可在本公司選購(gòu)各種靶材

薄膜測(cè)厚儀（可選）：可在本公司選購(gòu)薄膜測(cè)厚儀安裝在濺射儀上

凈重：60Kg（不包括泵)

質(zhì)量認(rèn)證：CE認(rèn)證

使用提示：

• 此設(shè)備為DIY設(shè)備，參數(shù)變化較大購(gòu)買(mǎi)前請(qǐng)務(wù)必電話仔細(xì)溝通
• 為了得到的薄膜質(zhì)量，必須通入高純氣體（建議> 5N） 
• 在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺(tái)的潔凈 
• 要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合，請(qǐng)?jiān)跒R射前清潔基材表面 
• 超聲波清洗（詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮?dú)飧稍铮?）真空烘箱除去水分。 
• 等離子清洗（詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片）：可表面粗糙化，可激活表面化學(xué)鍵，可祛除額外的污染物。 
• 制造一個(gè)薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。

警告：

• 注意：產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動(dòng)機(jī)體。 
• 氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥（設(shè)備標(biāo)配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。
• 濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶