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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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勻膠機(jī)/勻膠旋涂儀

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機(jī)

狹縫涂布儀

烤膠機(jī)/熱板

快速退火爐

納米壓印光刻機(jī)

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

等離子去膠機(jī)

超聲波清洗機(jī)

原子層沉積系統(tǒng)

光學(xué)膜厚儀

探針臺

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

手持式表面分析儀

接觸角測角儀

顯微鏡檢測系統(tǒng)

注射泵

干冰清洗機(jī)

程序剪切儀

韓國波導(dǎo)樹脂

環(huán)氧樹脂

光學(xué)試劑

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙
  • 防潮箱

    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動泵

    熱循環(huán)儀

    離心機(jī)

    手套箱

    天平

    鍵合機(jī)

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

    橢偏儀

    自動涂膜器

    分光光度計

    點膠機(jī)

    噴涂機(jī)

    晶圓片

    密度測試儀

    臨界點干燥儀

    光譜儀

    太陽光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測量單元

    太陽能電池IV測試系統(tǒng)

    太陽模擬器

    LED測量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    滅菌鍋

    鍍膜設(shè)備

    公司信息

    聯(lián)人:
    鄧經(jīng)理
    話:
    4008800298
    機(jī):
    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
    編:
    化:
    www.mycro.net.cn
    網(wǎng)址:
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    http://www.muquzhou.cn/st119375/
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    [供應(yīng)]NX-B100多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)(熱壓?。?/div>
    NX-B100多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)(熱壓?。? src=
    貨物所在地:
    國外
    更新時間:
    2025-03-19 09:11:45
    有效期:
    2025年3月19日--2025年9月16日
    已獲點擊:
    397
    【簡單介紹】NX-B100/B200整片基板納米壓印系統(tǒng)經(jīng)過了大量的實時實地驗證,質(zhì)量可 靠,性能*穩(wěn)定。具備全部壓印模式:熱固化、紫外固化和壓印?;讵?特保護(hù)的Nanonex氣墊軟壓技術(shù)(ACP),不論模版或基板背面粗糙程 度如何,或是模版或基板表面波浪和弧形結(jié)構(gòu),NX-B100/B200均可對其校 正補償從而獲得的壓印均勻性, ACP消除了基板與模版之間側(cè)向偏 移,有效地延長了模版使用壽命
    【詳細(xì)說明】

    NX-B100多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)(熱壓?。?/span>

    系統(tǒng)概述:

    NX-B100/B200整片基板納米壓印系統(tǒng)經(jīng)過了大量的實時實地驗證,質(zhì)量可 靠,性能*穩(wěn)定。具備全部壓印模式:熱固化、紫外固化和壓印?;讵?特保護(hù)的Nanonex氣墊軟壓技術(shù)(ACP),不論模版或基板背面粗糙程 度如何,或是模版或基板表面波浪和弧形結(jié)構(gòu),NX-B100/B200均可對其校 正補償從而獲得的壓印均勻性, ACP消除了基板與模版之間側(cè)向偏 移,有效地延長了模版使用壽命。通過微小熱容設(shè)計可獲得快速的熱壓印周 期,zui終得到快速的工藝循環(huán)。

    主要特點:

    所有形式的納米壓印

    ? 熱塑化

    ? 紫外固化 (NX-B200)

    ? 熱壓與紫外壓印同時進(jìn)行

    (NX-B200)

    ? 熱固化 氣墊軟壓技術(shù)(ACP)

    ? Nanonex技術(shù)

    ? *的整片基板納米壓印

    均勻性

    ? 高通量

    低于10nm分辨率 快速工藝循環(huán)時間(小于60秒) 靈活性

    ? zui大75毫米直徑壓印面積

    ? 各種尺寸及不規(guī)則形狀模

    板與基板均可壓印

    ? 方便用戶操作

    基于超過12年、15代產(chǎn)品開發(fā) 經(jīng)驗的自動化壓印操作

    Nanonex壓印系統(tǒng)經(jīng)過大量實 時實地驗證,質(zhì)量可靠,性 能*穩(wěn)定

    全自動納米壓印

    系統(tǒng)參數(shù):

    熱塑壓印模塊(NX-B100/B200) ? 溫度范圍0~250oC

    ? 加熱速度>200oC/分鐘

    ? 制冷速度>60oC/分鐘

    ? 壓力范圍0 ~ 3.45 MPa(500 psi)

    紫外固化模塊(NX-B200)

    ? 58mW/cm2紫外LED光源

    ? 365納米或395納米波長可選

    ? 全自動化控制

    模版裝載功能

    ? zui大3英寸模板可用于標(biāo)配納米壓印系統(tǒng)

    基板裝載

    標(biāo)配納米壓印系統(tǒng)可裝載3英寸基 板 各種尺寸及不規(guī)則形狀模板與 基板均可壓印 *保護(hù)ACP技術(shù)可zui大 限度保護(hù)模板和基板,特別對 于象磷化銦(InP)等極易碎模 板和基板給予zui大限度。

    其他參數(shù):

    配有微軟Windows的電腦控制系統(tǒng) 用戶友好的控制軟件 程序化控制壓印溫度、壓力和時間 真空和壓縮空氣操作由電腦控制 手動裝載/拆卸基板 自動化壓印操作 設(shè)備占地面積:32 × 34 英寸

    (810 mm × 860 mm) 應(yīng)用領(lǐng)域:納米電子和光電子、顯示器、數(shù)據(jù)存儲介質(zhì)、*材料、生物科技、納米流道等。



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