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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

勻膠機(jī)/勻膠旋涂儀

狹縫涂布儀

掩膜曝光光刻機(jī)

納米壓印光刻機(jī)

快速退火爐

烤膠機(jī)/熱板

紫外臭氧清洗機(jī)

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

等離子去膠機(jī)

超聲波清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

原子層沉積系統(tǒng)

光學(xué)膜厚儀

探針臺

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

接觸角測角儀

手持式表面分析儀

干冰清洗機(jī)

注射泵

顯微鏡檢測系統(tǒng)

程序剪切儀

環(huán)氧樹脂

韓國波導(dǎo)樹脂

光學(xué)試劑

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙
  • 防潮箱

    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動泵

    熱循環(huán)儀

    離心機(jī)

    手套箱

    天平

    鍵合機(jī)

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

    橢偏儀

    自動涂膜器

    分光光度計(jì)

    點(diǎn)膠機(jī)

    噴涂機(jī)

    晶圓片

    密度測試儀

    臨界點(diǎn)干燥儀

    光譜儀

    太陽光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測量單元

    太陽能電池IV測試系統(tǒng)

    太陽模擬器

    LED測量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    滅菌鍋

    鍍膜設(shè)備

    公司信息

    聯(lián)人:
    鄧經(jīng)理
    話:
    4008800298
    機(jī):
    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
    編:
    個(gè)化:
    www.mycro.net.cn
    網(wǎng)址:
    www.mycro.cn
    鋪:
    http://www.muquzhou.cn/st119375/
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    [供應(yīng)]ZEPTO-Diener 等離子清洗機(jī)
    ZEPTO-Diener 等離子清洗機(jī)
    貨物所在地:
    北京北京市
    產(chǎn)地:
    德國
    更新時(shí)間:
    2025-03-19 09:11:52
    有效期:
    2025年3月19日--2025年9月16日
    已獲點(diǎn)擊:
    459
    【簡單介紹】等離子體表面處理儀的應(yīng)用范圍:
    * 清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
    * 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
    * 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。
    * 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
    * 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板。
    * 清洗生物芯片、微流控芯片。
    【詳細(xì)說明】

    * 清洗沉積凝膠的基片。
    * 高分子材料表面修飾。
    * 牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。
    * 改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。 
    小型等離子清洗機(jī)-低成本等離子處理設(shè)備
    等離子清洗-等離子刻蝕-等離子去膠-等離子活化
    小型等離子清洗機(jī)以體積小、成本低、操作簡便等特點(diǎn)廣泛應(yīng)用于科研及小批量生產(chǎn)場合。

     

    ZEPTO等離子清洗機(jī)
    反應(yīng)室尺寸:玻璃反應(yīng)艙Ø 105 mm,L 300 mm
    反應(yīng)室容積:約 2,6 公升
    氣體供應(yīng):針閥控制型,雙氣體通道
    射頻發(fā)生器:40kHz/100W或13,56 MHz/ 50W
    真空泵:抽氣速率: 2 m³/h    
    托盤:1 件
    控制方式:手動,計(jì)時(shí)器控制制程時(shí)間

     



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