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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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勻膠機(jī)(英文名：Spin Coater)適合半導(dǎo)體硅片的勻膠鍍膜 型號(hào)：WS-650Mz-23NPP 一、產(chǎn)品概述： 二、勻膠機(jī)工作原理： 三、勻膠機(jī)主要性能指標(biāo)： 2、Wafer芯片尺寸：10-150mm直徑的材料，方片125x125mm，小于10mm提供3mm的轉(zhuǎn)接托盤）； 3、轉(zhuǎn)動(dòng)速度：0-12,000rpm， 4、旋涂加速度：0-30000rpm/sec（空載）； 5、馬達(dá)旋涂轉(zhuǎn)速：穩(wěn)定性能誤差 < ±1%； 6、轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度：<0.2rpm，重復(fù)性< 0.2rpm； 7、工藝時(shí)間設(shè)定：1-5999.9 sec/step 0.1 精度； 8、勻膠機(jī)材質(zhì)：NPP天然聚丙烯材質(zhì)，抗腐蝕性和抗化學(xué)物性，美觀大方； 9、高精度數(shù)碼控制器：PLC控制，設(shè)置點(diǎn)精度小于0.006%。 10、程序控制：可存儲(chǔ)20個(gè)程序段，每個(gè)程序段可以設(shè)置51步不同的速度狀態(tài)； 11、分辨率：分辨率小于0.5轉(zhuǎn)/分，可重復(fù)性小于±0.5轉(zhuǎn)/分，美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)研究院（NIST）認(rèn)證過的，并且無需再校準(zhǔn)！] 13、配套分析軟件：SPIN3000操作分析軟件； 14、*水平測(cè)試儀； 可選配置： IND構(gòu)造為濕站系統(tǒng)設(shè)計(jì)，帶遠(yuǎn)程控制； OND構(gòu)造為手套箱系統(tǒng)設(shè)計(jì)，帶遠(yuǎn)程控制； UD自動(dòng)滴膠裝置：UD-3帶倒吸裝置的多噴嘴可編程針筒， EBR(Edge Bead Remover)：晶圓去邊，機(jī)械裝置； |
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