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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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型號： RIE 2000反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
產(chǎn)地： 美國
品牌：MYCRO
*供應(yīng)，本地服務(wù)！MYCRO專業(yè)為您提供實驗室RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)設(shè)備，*的技術(shù)服務(wù)及售后，MYCRO值得您的的信賴！
RIE 2000 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)是專門為微電子器件的各向異性刻蝕設(shè)計的。這款緊湊型的研究級設(shè)備可以用于工藝開發(fā)和小批量生產(chǎn)，從而可以模擬大型生產(chǎn)設(shè)備的操作。
RIE 2000是一套分子渦輪真空泵系統(tǒng)，可以達(dá)到底限壓力10-6 torr。這樣的低基準(zhǔn)壓力使得刻蝕前腔體內(nèi)的殘留物被消除，從而提供了一個潔凈的蝕刻環(huán)境，使高度的異向性刻蝕成為可能。其200毫米直徑的真空倉可以容納zui大6英寸直徑及相應(yīng)尺寸不規(guī)則基片的蝕刻。RIE 2000配套的全手動控制系統(tǒng)及數(shù)字顯示讀取，使設(shè)備可以進(jìn)行更廣泛的蝕刻實驗參數(shù)設(shè)定，并不受限于常規(guī)自動化的處理范圍。
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技術(shù)規(guī)格:
真空泵: 70 1/sec 渦輪分子泵
氣體輸入: 雙通道，全不銹鋼構(gòu)造，配備整體式氣體噴頭。
系統(tǒng)排氣/泄壓裝置:獨立式連鎖電磁閥，配有干燥氮氣連接。
射頻電源: User variable 0-200 watt; 13.56 MHz frequency,
手動調(diào)節(jié);風(fēng)冷; 固態(tài)設(shè)計.
工藝時間控制: 蝕刻自動終止，zui長時間為99:99:59
輸入電源: 115/230 VA, 50/60 Hz, 10/5 amps.
系統(tǒng)尺寸: 20.25" W x 16" D x 15" H
真空處理艙尺寸: quartz, 8" OD x 4" high.
選配件:不銹鋼艙,觀測窗;質(zhì)量流量控制系統(tǒng),zui多配四路氣體通道;冷陰極真空計
需要更詳細(xì)的Reactive Ion Etcher反應(yīng)離子刻蝕機(jī)產(chǎn)品資料，
請與邁可諾技術(shù)有限公司中國營銷服務(wù)中心區(qū)域辦公室!
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