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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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聯(lián)系電話
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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L-100
光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導體或玻璃基板上的光學技術(shù)。L-100專為4英寸晶圓而設計，具有硬接觸、軟接觸和真空接觸三種接觸方式。對準器有一個365nm的UV LED光源。365nm處的光功率為20mW/cm 。可用于商業(yè)半導體制造或大學實驗室晶圓制造以及MEMS領域。
技術(shù)參數(shù)
類型 | PLC手動控制系統(tǒng) | 波長 | 365 nm |
掩膜版尺寸 | 5英寸 | 紫外光強度 | 20 ? |
基片尺寸 | 4英寸晶圓 | 紫外線光束均勻度 | ≤3 % |
分辨率 | 1 ? | 接觸模式 | 真空/硬/軟 |
對準精度 | 1 ? | 顯微鏡 | 雙CCD變焦顯微鏡 |
選配項 | Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA |
M-100
光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導體或玻璃基板上的光學技術(shù)。M-100專為4英寸晶圓而設計，具有硬接觸、軟接觸和真空接觸三種接觸方式。對準器有一個350W的紫外線光源。365nm處的光功率為25mW/cm ?？捎糜谏虡I(yè)半導體制造或大學實驗室晶圓制造以及MEMS領域。
技術(shù)參數(shù)
類型 | PLC手動控制系統(tǒng) | 波長 | 350 ~ 450 nm |
掩膜版尺寸 | 最大5*5英寸 | 紫外光強度 | 15 ~ 25/ ? |
基片尺寸 | 4英寸晶圓 | 紫外線光束均勻度 | 3 ~ 5 % |
分辨率 | 1 ? | 接觸模式 | 真空/硬/軟/接近 |
對準精度 | 1 ? | 顯微鏡 | 雙CCD變焦顯微鏡 |
紫外燈和電源 | 350W | 選配項 | Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA |
