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邁可諾技術有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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聯(lián)系電話
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EM Resist提供了一系列經(jīng)典的SU-8光致抗蝕劑產(chǎn)品，非常適合半導體應用。我們的產(chǎn)品有各種形式和厚度范圍。
產(chǎn)品 膜厚范圍 涂層選項
GM1010 <0.2微米 噴涂外套
GM1020 0.2-0.5微米 旋轉(zhuǎn)，噴涂，噴墨
GM1030 0.5-1.2微米 旋轉(zhuǎn)，噴涂，噴墨
GM1040 0.9-3.2微米 旋轉(zhuǎn)，噴涂，噴墨
GM1050 3-8微米 旋轉(zhuǎn)，噴墨
GM1060 2-27微米 旋轉(zhuǎn)，噴墨
GM1070 15-200微米 旋轉(zhuǎn)，噴墨
GM1075 100-400微米 旋轉(zhuǎn)，噴墨
小訂購量為250mL
SML Resist是一種高分辨率，高縱橫比的正色調(diào)電子束抗蝕劑。它具有出色的附著力和出色的抗干蝕刻性。SML可用于MEMS，波帶片，光子學和許多其他納米加工應用
SML電子束抗蝕劑的厚度范圍從50nm到2μm，起始體積僅為50mL。
高性能SML電子束抗蝕劑是一種新型聚合物，專為滿足EBL社區(qū)的需求而設計。即使在低加速電壓下，也無需借助鄰近效應校正，就可以同時將其圖案化為高分辨率和高長寬比的圖案。
SML抗蝕劑經(jīng)過專門設計，可與標準PMMA工藝配合使用。無需更改化學或過程培訓。
產(chǎn)品范圍–厚度
SML50：40nm – 100nm
SML100：90nm – 210nm
SML300：250nm – 600nm
技術指標
高分辨率：<10nm
*的寬高比：
30 kV時> 10：1
> 50：1 @ 100 kV
厚度：50 nm – 2000 nm
PMMA抗蝕劑是用于電子束光刻的行業(yè)標準正性抗蝕劑。我們提供各種分子量和厚度的PMMA。
PMMA Resist是行業(yè)標準的電子束抗蝕劑，廣泛用于學術界和工業(yè)，用于高分辨率功能和剝離應用。它也可以用于納米壓印應用以及其他晶圓廠和研發(fā)過程，例如石墨烯薄片轉(zhuǎn)移。
