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邁可諾技術有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

勻膠機/勻膠旋涂儀

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掩膜曝光光刻機

納米壓印光刻機

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紫外臭氧清洗機

紫外固化機/紫外固化箱

等離子去膠機

超聲波清洗機

等離子清洗機

原子層沉積系統(tǒng)

光學膜厚儀

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    有機光伏材料

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    干燥箱

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    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    滅菌鍋

    鍍膜設備

    公司信息

    聯(lián)人:
    鄧經(jīng)理
    話:
    4008800298
    機:
    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
    編:
    化:
    www.mycro.net.cn
    網(wǎng)址:
    www.mycro.cn
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    http://www.muquzhou.cn/st119375/
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    [供應]MEMA-800-掩膜曝光光刻機Mask Aligner MEMA-800
    MEMA-800-掩膜曝光光刻機Mask Aligner MEMA-800
    貨物所在地:
    北京北京市
    更新時間:
    2024-12-30 09:23:35
    有效期:
    2024年12月30日--2025年6月29日
    已獲點擊:
    162
    【簡單介紹】MYCRO*荷蘭光刻機(Mask Aligner),是的光刻系統(tǒng),為半導體制造和科研領域提供品質優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng),廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域??蛻羧缑绹娇蘸教旃尽w利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學、劍橋大學、斯坦福大學、倫敦大學等等。
    【詳細說明】

    光刻機分為半自動和全自動兩大系列。MEMA-800是研發(fā)中心和大學中的微機開發(fā)。操縱器,壓力傳感器,加速度傳感器,功率設備等。倒裝芯片/BGA/CSP的暴露。暴露于光學/高速通信組件中。

    二、技術參數(shù):

    1、目標分離15?75毫米;

    2、總放大倍率100倍;

    3、觀察照明器紅色LED(λ= 633 nm);

    4、X,Y平臺移動范圍±5毫米;

    5、θ調整±5°

    6、主體電源和水銀燈交流100V 50 / 60Hz 15A

    7、真空源低于21.3 Kpa(大氣壓為-80 Kpa)

    8、鏡片:積分鏡

    9、汞燈:250W超高壓蒸汽汞燈

    10、有效接觸面積:大φ100毫米

    11、強度分布:±5%以下

    12、照度20 mW / cm 2  (405納米)

    13、曝光時間控制數(shù)字計時器和旋轉螺線管

    14、汞燈照明裝置交流110V

     

    三、產(chǎn)品特點:

    經(jīng)濟,緊湊和高級性能
    在視場中查看兩個對準標記的融合圖像。
    用于曝光的積分鏡。
    LED照明器



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