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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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勻膠機(jī)/勻膠旋涂儀

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機(jī)

狹縫涂布儀

烤膠機(jī)/熱板

快速退火爐

納米壓印光刻機(jī)

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

等離子去膠機(jī)

超聲波清洗機(jī)

原子層沉積系統(tǒng)

光學(xué)膜厚儀

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壓片機(jī)/液壓機(jī)

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手持式表面分析儀

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    鍵合機(jī)

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    膜厚監(jiān)測儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

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    分光光度計

    點(diǎn)膠機(jī)

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    密度測試儀

    臨界點(diǎn)干燥儀

    光譜儀

    太陽光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測量單元

    太陽能電池IV測試系統(tǒng)

    太陽模擬器

    LED測量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    滅菌鍋

    鍍膜設(shè)備

    公司信息

    聯(lián)人:
    鄧經(jīng)理
    話:
    4008800298
    機(jī):
    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
    編:
    化:
    www.mycro.net.cn
    網(wǎng)址:
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    http://www.muquzhou.cn/st119375/
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    [供應(yīng)]QualiX-P1-貴金屬XRF光譜儀
    QualiX-P1-貴金屬XRF光譜儀
    貨物所在地:
    北京北京市
    更新時間:
    2025-01-20 09:12:33
    有效期:
    2025年1月20日--2026年1月21日
    已獲點(diǎn)擊:
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    【簡單介紹】XRF光譜儀– QualiX- P1非常適合貴金屬分析,是電子/電器和裝飾品加工的理想選擇。
    【詳細(xì)說明】
    XRF光譜儀– QualiX- P1非常適合貴金屬分析,是電子/電器和裝飾品加工的理想選擇。
    分析儀的兩個主要應(yīng)用是合金測定/化學(xué)分析,土壤分析和礦物分析
    合金測定/化學(xué)分析
    XRF分析儀在確定所檢查的合金以及對樣品的構(gòu)成元素進(jìn)行化學(xué)分析時可發(fā)揮*大的潛力。樣品制備中應(yīng)清除所有灰塵,鐵銹,油脂等。如果樣品已經(jīng)清潔,則無需進(jìn)行制備,不干凈的樣品將對分析產(chǎn)生重大影響。有許多因素可能會導(dǎo)致合金樣品分析錯誤,例如樣品大小或清潔度等因素會干擾讀數(shù)。這些因素的解決方案可以很簡單,例如對樣品表面進(jìn)行涂漆或涂層,或者如果樣品尺寸太小,可以同時使用多個樣品。
     
    性能:

     

    • 超高精度,*高性能
    • 電冷卻Si-Pin半導(dǎo)體探測器代替液氮冷卻探測器
    • 專門開發(fā)的軟件,界面友好
    • 自由選擇濾鏡和準(zhǔn)直儀自動切換
    • 多變量非線性回歸程序;獨(dú)立矩陣效應(yīng)校正模型
    • 三重安全保護(hù)模式;鋼材結(jié)構(gòu)優(yōu)雅時尚
    • 手動打開和關(guān)閉樣品室,安全便捷
    • 信噪增強(qiáng)器(SNE ),大大提高了測量的穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性
    • 內(nèi)置高分辨率攝像頭,方便用戶隨時分析樣品

     工作原理

    當(dāng)某些元素受到X射線轟擊時,會發(fā)射出電子,從而使能量從外殼中釋放出來。電子可以從原子的內(nèi)殼中彈出,從而使它們從更高的層次下降。當(dāng)此事件發(fā)生時,稱為特征X射線。


    X射線熒光過程
    a致輻射的x射線和特征性x射線是由電子束產(chǎn)生的,這是由XRF分析儀用X射線轟擊樣品的原子而發(fā)生的。每個電子躍遷都發(fā)射特征X射線(熒光光子),其能量等于特定元素在兩個殼之間的能量差。電子在相同元素的所有原子中具有相同的固定能級,每個類似的電子躍遷均發(fā)射相同離散能量的X射線。因此,當(dāng)電子從同一元素的原子中射出時,發(fā)出的X射線是相同的。

    技術(shù)指標(biāo):
    可測元素      鉀(K?鈾(U 
    同時元素      同時分析24個元素
    測量對象      粉末,固體和液體
    測試時間      60s-300s
    能量分辨率   155±5)電子伏特
    分析精度      0.05
    管電壓        5kV?50kV
    管電流        50µA?1000µA
    檢出限        1 ppm
    環(huán)境溫度范圍  15-30°攝氏度
    相對濕度      35?70
    重量          30公斤
    工作電壓      交流110v / 220v
    箱體尺寸      310(寬)* 300(深)* 100mm(高)


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