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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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Futurrex產(chǎn)品優(yōu)勢：
1、Futurrex光刻膠黏附性好，無需使用增粘劑（HMDS）
2、負(fù)性光刻膠常溫下可保存3年
3、150度烘烤，縮短了烘烤時間
4、單次旋涂能夠達(dá)到100um膜厚
5、顯影速率快，100微米的膜厚，僅需6~8分鐘
正性光刻膠
A、 粘度增強正膠（PR1系列）
應(yīng)用：蝕刻、反應(yīng)離子刻蝕、離子注入、電鍍；
特征：PR1系列正膠耐熱溫度=110℃；
品牌 | 產(chǎn)地 | 型號 | 厚度 | 耐熱溫度 | 應(yīng)用 |
Futurrex | 美國 | PR1-500A | 0.4μm～0.9μm | 耐熱溫度=110 ℃ | 濕刻、反應(yīng)離子束刻蝕、離子植入、電鍍 |
PR1-1000A | 0.7μm～2.0μm | ||||
PR1-1500A | 1.3μm～3.0μm | ||||
PR1-2000A | 1.7μm~4.0μm | ||||
PR1-4000A | 3.7μm~10.0μm | ||||
PR1-12000A | 10.0μm~25.0μm | ||||
Micro Resist | 德國 | ma-P 1200系列 | 0.5～50μm膠厚 | 非常適合作為刻蝕掩模，*的抗干刻、濕刻性能； 光刻膠圖案良好的熱穩(wěn)定性；堿性水溶液下顯影； | |
