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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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英國Agar Scientific：B7340手動(dòng)型離子濺射儀
易于使用的基本濺射涂布機(jī)，用于SEM樣品的金涂層
這是一種易于使用的基本儀器，用于SEM樣品的金涂層。它具有*可變的電流控制，帶暫停選項(xiàng)的數(shù)字處理計(jì)時(shí)器，可變高度的樣品臺(tái)，鉸接頂板和O形密封真空室。該控制允許濺射電流獨(dú)立于氣體壓力設(shè)定，氣體壓力可通過手動(dòng)泄漏閥單獨(dú)調(diào)節(jié)。覆蓋率和粒度針對任何樣品進(jìn)行了優(yōu)化。具有57mm直徑目標(biāo)的冷磁控管型頭可以在小的加熱下實(shí)現(xiàn)高效濺射。涂布時(shí)間由帶有數(shù)字讀數(shù)的定時(shí)器設(shè)定并存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器中。真空狀態(tài)和濺射電流顯示在面板儀表上。
模塊化桌面設(shè)計(jì)將濺射控制單元，泵送系統(tǒng)和厚度監(jiān)視器組合在一個(gè)僅400 x 600mm的區(qū)域內(nèi)。它采用快速釋放全金屬耦合系統(tǒng)*集成?？烧{(diào)節(jié)高度的樣品臺(tái)多可接受12針型短柱，也可用作其他類型短柱和樣品的平臺(tái)。為可選的膜厚監(jiān)控器提供真空饋通。
Agar手動(dòng)噴金儀（離子濺射儀）為英國進(jìn)口設(shè)備，操作簡單，適用于掃描電鏡樣品制備，可噴金、鉑、金/鈀、鉑/鈀、銀等。
噴金儀使用小貼士：
1）需要濺射噴金的樣品
a)*類樣品是電子束敏感的樣品，主要包括生物樣品，塑料樣品等。SEM中的電子束具有較高能量，在與樣品的相互作用過程中，它以熱的形式將部分能量傳遞給樣品。如果樣品是對電子束敏感的材料，那這種相互作用會(huì)破壞部分甚至整個(gè)樣品結(jié)構(gòu)。這種情況下，用一種非電子束敏感材料制備的表面鍍層就可以起到保護(hù)層的作用，防止此類損傷；
b)另一類樣品是非導(dǎo)電的樣品，由于樣品不導(dǎo)電，其表面帶有“電子陷阱”，這種表面上的電子積累被稱為“充電”。為了消除荷電效應(yīng)，可在樣品表面鍍一層金屬導(dǎo)電層，鍍層作為一個(gè)導(dǎo)電通道，將充電電子從材料表面轉(zhuǎn)移走，消除荷電效應(yīng)。在掃描電鏡成像時(shí)，濺射材料可以增加信噪比，從而獲得更好的成像質(zhì)量。
2)濺射材料
常用的濺射材料為金，導(dǎo)電性高。
噴金儀的真空度越高，所濺射的金屬顆粒越小，可以減少樣品表面形貌失真的情況。當(dāng)需要超高分辨率成像時(shí)，選擇高真空噴金儀，同時(shí)還可以選用其他濺射材料，如：鉻，銥等，濺射的晶粒更細(xì)小。
規(guī)格
室大小 120mmØx120mm高（4.75“x 4.75”）
濺射頭 低壓平面磁控管
快速改變目標(biāo)
環(huán)繞式暗空間護(hù)罩
濺射目標(biāo) 金標(biāo)配（Au / Pd或Pt可選）
57毫米直徑x 0.1毫米厚
濺射供應(yīng) 基于微處理器
安全聯(lián)鎖
電流控制獨(dú)立于真空
可變10 - 40mA
外形尺寸 W 420mm（16.5“），D 295mm（11.6”），H 287mm（11.3“）
重量 10公斤（22.1磅）
功率 大40VA（不包括旋轉(zhuǎn)泵）
