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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

勻膠機(jī)/勻膠旋涂儀

狹縫涂布儀

掩膜曝光光刻機(jī)

納米壓印光刻機(jī)

快速退火爐

烤膠機(jī)/熱板

紫外臭氧清洗機(jī)

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

等離子去膠機(jī)

超聲波清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

原子層沉積系統(tǒng)

光學(xué)膜厚儀

探針臺

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

接觸角測角儀

手持式表面分析儀

干冰清洗機(jī)

注射泵

顯微鏡檢測系統(tǒng)

程序剪切儀

環(huán)氧樹脂

韓國波導(dǎo)樹脂

光學(xué)試劑

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙
  • 防潮箱

    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動泵

    熱循環(huán)儀

    離心機(jī)

    手套箱

    天平

    鍵合機(jī)

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

    橢偏儀

    自動涂膜器

    分光光度計

    點膠機(jī)

    噴涂機(jī)

    晶圓片

    密度測試儀

    臨界點干燥儀

    光譜儀

    太陽光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測量單元

    太陽能電池IV測試系統(tǒng)

    太陽模擬器

    LED測量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    滅菌鍋

    鍍膜設(shè)備

    公司信息

    聯(lián)人:
    鄧經(jīng)理
    話:
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    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
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    [供應(yīng)]CNI v2.1-CNI v2.1 -桌面納米壓印工具
    CNI v2.1-CNI v2.1 -桌面納米壓印工具
    貨物所在地:
    北京北京市
    更新時間:
    2024-12-17 09:03:26
    有效期:
    2024年12月17日--2025年6月19日
    已獲點擊:
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    【簡單介紹】CNI v2.1是一種非常靈活的納米壓印工具。它可提供熱納米壓印、UV納米壓印以及真空納米壓印。模塊化系統(tǒng)可根據(jù)特定需求輕松配置。體積小,容易存放。大可處理Ø100毫米(4英寸)所有形狀和格式的印章和基板。該系統(tǒng)是手動裝卸印章和基板,但所有處理器都是全自動的,專用軟件用戶可以*控制壓印過程。
    【詳細(xì)說明】

    特色:

    •    體積小巧,容易存放,桌面型

    •    輕微復(fù)制微米和納米級結(jié)構(gòu)

    •    熱壓印溫度高達(dá)200°C

    •    可選的高溫模塊,適用于240°C

    •    UV 納米壓印,365nm曝光

    •    真空納米壓?。ㄇ皇铱沙檎婵罩?/span>0.1毫巴)

    •    納米壓印壓力高達(dá)10

    •    溫度分布均勻、讀數(shù)精準(zhǔn)

    •    筆記本電腦全自動控制,工藝配方編輯簡單,*靈活控制,自動記錄數(shù)據(jù)

    •    直徑大100毫米(圓形)腔室

    •    腔室高度為20毫米,可擴(kuò)展至45毫米

    •    即插即用

    •    使用簡單直觀

    •    專為研發(fā)而設(shè)計

    •    提供安裝和操作教程視頻

     

    應(yīng)用:在過去五年中,石墨烯的氣體傳感器引起了極大的興趣,顯示出單分子檢測。

    近的研究表明,與非圖案化層相比,石墨烯的圖案化強(qiáng)烈地增加了靈敏度。

    通過標(biāo)準(zhǔn)程序生長CVD石墨烯,然后轉(zhuǎn)移到Si / SiO 2基板上進(jìn)行進(jìn)一步處理。 如(Mackenzie,2D Materials)中所述,使用物理陰影掩模和激光燒蝕來定義接觸和器件區(qū)域。

    使用軟壓印在CNI v2.0中進(jìn)行熱納米壓印光刻。 mr-I7010E壓印抗蝕劑在130℃,6巴壓力下壓印10分鐘。 壓力在70℃下釋放。

    通過反應(yīng)離子蝕刻將邊緣到邊緣間隔為120-150nm的大面積圖案的孔轉(zhuǎn)移到石墨烯中,并且用丙酮除去殘留的抗蝕劑。

    發(fā)現(xiàn)器件具有大約的載流子遷移率發(fā)現(xiàn)器件在加工前具有約2000cm2 / Vs的載流子遷移率,之后具有400cm2 / Vs的載流子遷移率處理,同時保持整體低摻雜水平。




     

     



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