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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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一、技術(shù)參數(shù)：
1.腔體材質(zhì)：全鋁鋁質(zhì)腔體；
2.樣品臺(tái)尺寸：處理最大直徑6英寸樣品；
3.基片加熱溫度：室溫~315℃±1℃；
4.液體源：一路高蒸氣壓液體氧化劑（H2O或H2O2），3路固體或液體金屬源；
5.可變過程壓力控制0.1至1.5Torr；
6.ALD閥：Swagelok快速高溫ALD專用閥；
7.載氣系統(tǒng)：N2，壓力30Psi；
8.生長模式：連續(xù)和停留沉積模式任意選擇；
9.控制系統(tǒng)：16位7英寸彩色觸摸屏PLC操作控制；
10.4個(gè)世偉洛克熱敏ALD閥門；
11.5個(gè)高溫劑量容積填充閥；
12.帶輔助彎頭加熱器的保形加熱套，操作溫度室溫至150℃；
13.帶閥門的50ccSS前體瓶，波紋管密封高溫兼容閥;
14.Fujikin金屬密封，200sccmMFC流量質(zhì)量控制器，用于N2或Ar吹掃流量控制；
15.基于雙溫探頭的腔室加熱器控制系統(tǒng)和探頭故障保險(xiǎn)；
16.OEM 2級(jí)旋轉(zhuǎn)葉片泵，抽速18 cfm，極限真空3mtorr，包括Flomblin用于PFPE油；
二、技術(shù)特點(diǎn)
精準(zhǔn)控制：薄膜厚度可精確至亞納米級(jí)（0.1 ?/cycle），重復(fù)性誤差<1%。
高均勻性：在復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)（如納米線、多孔材料）表面實(shí)現(xiàn)均勻覆蓋。
低溫工藝：部分機(jī)型支持室溫至300℃以上，范圍沉積，兼容熱敏感基材（如聚合物、生物材料）。
前驅(qū)體兼容性：支持金屬有機(jī)化合物、鹵化物、等離子體增強(qiáng)（PEALD）等多種反應(yīng)模式。
原位監(jiān)測：集成石英晶體微天平（QCM）、橢偏儀或光學(xué)反射儀，實(shí)時(shí)監(jiān)控薄膜生長。
三、應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體制造：高介電材料（HfO?、Al?O?）、晶體管柵極、DRAM電容薄膜。
新能源：鋰離子電池電極包覆層、燃料電池催化劑涂層。
光電子器件：OLED封裝層、光伏器件鈍化層。
納米技術(shù)：量子點(diǎn)涂層、MEMS器件防水/防腐蝕膜。
生物醫(yī)療：生物傳感器表面功能化、植入器械抗菌涂層。
四、目前可以沉積的材料包括：
1）氧化物: Al2O3, TiO2, Ta2O5, ZrO2, HfO2, SnO2, ZnO, La2O3, V2O5, SiO2
2）氮化物: AlN, TaNx, NbN, TiN, MoN, ZrN, HfN, GaN
3）氟化物: CaF2, SrF2, ZnF2
4）金屬: Pt, Ru, Ir, Pd, Cu, Fe, Co, Ni
5）碳化物: TiC, NbC, TaC
6）復(fù)合結(jié)構(gòu)材料: AlTiNx, AlTiOx, AlHfOx, SiO2:Al, HfSiOx
7）硫化物: ZnS, SrS, CaS, PbS
目前可以沉積的材料包括：
1）氧化物: Al2O3, TiO2, Ta2O5, ZrO2, HfO2, SnO2, ZnO, La2O3, V2O5, SiO2,...
2）氮化物: AlN, TaNx, NbN, TiN, MoN, ZrN, HfN, GaN, ...
3）氟化物: CaF2, SrF2, ZnF2, ...
4）金屬: Pt, Ru, Ir, Pd, Cu, Fe, Co, Ni, ...
5）碳化物: TiC, NbC, TaC, ...
6）復(fù)合結(jié)構(gòu)材料: AlTiNx, AlTiOx, AlHfOx, SiO2:Al, HfSiOx, ...
7）硫化物: ZnS, SrS, CaS, PbS, ...
