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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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為了獲得大的過程可靠性，在涂覆SU-82000抗蝕劑之前，基材應(yīng)清潔干燥。為了獲得很好的結(jié)果，應(yīng)使用食人魚濕法蝕刻（使用H2SO4和H2O2）清潔基材，然后用去離子水沖洗?；囊部梢允褂梅磻?yīng)離子蝕刻進...
光刻膠的顯影和光刻工藝今天小編要跟大家簡要介紹關(guān)于光刻膠的顯影過程和光刻工藝處理的一些相關(guān)內(nèi)容。光刻工藝可用五個指標來衡量其效果：分辨率、靈敏度、套刻對準精度、缺陷率和硅片加工過程處理問題，其中有3個...
Laurell高精度WS-650-8型勻膠旋涂儀，可滿足Z大200mm直徑的晶圓片和7"×7"(178mm×178mm)的方片的高精度涂敷。勻膠機(英文名：SpinCoater)適合半導體硅片的勻膠鍍...
HarrickPlasma公司的等離子體表面處理儀是一種小型化、超清洗設(shè)備。Harrick等離子體表面處理儀采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。Harrick等離...
4122手動加熱型壓片機主要特點帶數(shù)字溫度控制和安全防護罩的加熱型壓片機CARVER手動加熱型壓片機，配有程序控溫模塊，安全視窗。Z高壓力包括12噸、25噸和30噸三個型號。廣泛適用于各種材料的成型、...
帶數(shù)字溫度控制和安全防護罩的加熱型壓片機CARVER手動加熱型壓片機，配有程序控溫模塊，安全視窗。高壓力包括12噸、25噸和30噸三個型號。廣泛適用于各種材料的成型、層壓、壓紋及黏結(jié)等。4386(CH...
M6SpinCoater可旋涂處理小碎片至6英寸圓晶圓片，使用無刷直流雙向旋轉(zhuǎn)馬達控制，轉(zhuǎn)速穩(wěn)定，控制器可拆卸配合手套箱使用，4.3英寸全彩觸屏人機界面操作，簡單易用。M6SpinCoater外形美觀...
干涉儀是利用干涉原理測量光程之差從而測定有關(guān)物理量的光學儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會非常靈敏地導致干涉條紋的移動，而某一束相干光的光程變化是由它所通過的幾何路程或介質(zhì)折射率的變化引起，所以通過...
WS-1000WetStation濕法刻蝕設(shè)備，全白色聚丙烯構(gòu)造，可內(nèi)置任何Laurell公司的旋涂機及顯影機，排放簡便的入氮口和DI噴頭，如果需要單工的系統(tǒng)，可選擇WS-1000M濕法刻蝕設(shè)備，WS...
EDC-650系列勻膠顯影系統(tǒng)適用于半導體前段制程的勻膠，顯影，刻蝕，沖洗，甩干等工藝，可通過程序控制多路試劑的顯影和濕法腐蝕，我們有著近三十年半導體濕法工藝的經(jīng)驗積累，通過對各路試劑注射的準確控制，...
MR200晶圓劃片機手動劃線可準確切割結(jié)構(gòu)化硅晶片的制造MR200的設(shè)置可為結(jié)構(gòu)化硅晶片切割提供高精度劃線。MR200是*的工具，特別是對于半導體技術(shù)中的REM制備。MR200還適用于少量芯片的單芯片...
Harrick等離子體表面處理儀的應(yīng)用范圍：*清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。*清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。*移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質(zhì)。*清洗ATR元...
