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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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回顧MichaelCratzel教授參加的2019年GYSS-分子光伏和鈣鈦礦太陽(yáng)能電池會(huì)議
鈣鈦礦領(lǐng)域大牛-分享制作鈣鈦礦方法
臺(tái)式狹縫涂布機(jī)涂布系統(tǒng)主要包括供料單元和涂布單元，涂布單元是通過(guò)利用精密機(jī)械加工所制作的上下模及安裝在上下模間的薄墊片所組成，供料單元由儲(chǔ)料、輸送的注射泵及過(guò)濾裝置等組成。系統(tǒng)由涂布模具相對(duì)于基片作準(zhǔn)...
恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中，NXQ4000系列光刻機(jī)是以半自動(dòng)系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)*的操作性，超高的分辨率，均勻的光學(xué)系統(tǒng)，穩(wěn)定的接近式和接觸式光刻及超高的性價(jià)比，使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經(jīng)被...
為了獲得大的過(guò)程可靠性，在涂覆SU-82000抗蝕劑之前，基材應(yīng)清潔干燥。為了獲得很好的結(jié)果，應(yīng)使用食人魚濕法蝕刻（使用H2SO4和H2O2）清潔基材，然后用去離子水沖洗?；囊部梢允褂梅磻?yīng)離子蝕刻進(jìn)...
鈣鈦礦太陽(yáng)能電池制備涂膜工藝業(yè)內(nèi)選Laurell勻膠機(jī)，從1985年開始，30多年業(yè)內(nèi)，用戶超百萬(wàn)！廣泛應(yīng)用于鈣鈦礦太陽(yáng)能電池薄膜制備，現(xiàn)當(dāng)前的型號(hào)WS-650-23B勻膠機(jī)，在任何一個(gè)著名的實(shí)驗(yàn)室可...
等離子清洗機(jī)，你想知道的都在這里（一）Q：發(fā)現(xiàn)試驗(yàn)效果不佳，怎么辦？A：請(qǐng)查看泵油顏色是否暗淡，污濁，并及時(shí)更換泵油。Q：設(shè)備不起輝光怎么辦？A：1.射頻燈未能提供射頻；2.密封性可能存在漏氣問(wèn)題。Q...
光刻膠的顯影和光刻工藝今天小編要跟大家簡(jiǎn)要介紹關(guān)于光刻膠的顯影過(guò)程和光刻工藝處理的一些相關(guān)內(nèi)容。光刻工藝可用五個(gè)指標(biāo)來(lái)衡量其效果：分辨率、靈敏度、套刻對(duì)準(zhǔn)精度、缺陷率和硅片加工過(guò)程處理問(wèn)題，其中有3個(gè)...
Laurell高精度WS-650-8型勻膠旋涂?jī)x，可滿足Z大200mm直徑的晶圓片和7"×7"(178mm×178mm)的方片的高精度涂敷。勻膠機(jī)(英文名：SpinCoater)適合半導(dǎo)體硅片的勻膠鍍...
HarrickPlasma公司的等離子體表面處理儀是一種小型化、超清洗設(shè)備。Harrick等離子體表面處理儀采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。Harrick等離...
4122手動(dòng)加熱型壓片機(jī)主要特點(diǎn)帶數(shù)字溫度控制和安全防護(hù)罩的加熱型壓片機(jī)CARVER手動(dòng)加熱型壓片機(jī)，配有程序控溫模塊，安全視窗。Z高壓力包括12噸、25噸和30噸三個(gè)型號(hào)。廣泛適用于各種材料的成型、...
帶數(shù)字溫度控制和安全防護(hù)罩的加熱型壓片機(jī)CARVER手動(dòng)加熱型壓片機(jī)，配有程序控溫模塊，安全視窗。高壓力包括12噸、25噸和30噸三個(gè)型號(hào)。廣泛適用于各種材料的成型、層壓、壓紋及黏結(jié)等。4386(CH...
