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涂膠顯影機(jī)是手動(dòng)型勻膠顯影機(jī),適合6''和8''的實(shí)驗(yàn)室涂膠和顯影應(yīng)用。涂膠顯影機(jī)適合不同類型的光刻化學(xué)試劑，通過腔體設(shè)計(jì)，提供均勻、精確和重復(fù)性高的涂膠結(jié)果。
涂膠顯影機(jī)可以完成最大尺寸為150mm或200mm的襯底涂覆功能。LabSpin涂膠機(jī)可以應(yīng)用于非常廣泛的襯底材料，從碎片到150/200mm圓片或100x100mm/150x150mm方片。非常小的設(shè)備尺寸只需要很小的占地空間。
涂膠顯影機(jī)LabSpin設(shè)計(jì)了大量的選配件，適用于不同應(yīng)用的需求。該涂膠系統(tǒng)可以裝配針筒或自動(dòng)滴膠臂、邊緣涂覆、去厚膠邊、積水式顯影等等多種配置。
涂膠顯影機(jī)涂膠方法
在旋涂法中旋轉(zhuǎn)襯底被均勻地涂以溶液。 溶液，如光致抗蝕劑，通常分注在晶圓中心。 .然后加速度、最終轉(zhuǎn)速和各步驟的持續(xù)時(shí)間使得涂料的一部分經(jīng)離心分離形成厚度均勻的膜。 除了工藝參數(shù)外，溶液或光致抗蝕劑的物理性質(zhì)決定了膜的厚度。
涂膠顯影機(jī)顯影技術(shù)
在此工藝中，一定量的顯影劑被滴在曝光后的襯底上，并通過適度的旋轉(zhuǎn)分散開。 顯影液因其表面張力在晶圓上形成凸?fàn)畹囊好妫ā癙uddle"）。 當(dāng)顯影時(shí)間結(jié)束后，通過提高旋轉(zhuǎn)速度甩干晶圓上的顯影液。 然后，用去離子水沖洗晶圓并同樣提高轉(zhuǎn)速甩干。 這種方法的優(yōu)點(diǎn)是，只需使用少量顯影液，就能提供優(yōu)異的顯影結(jié)果。

浸置式顯影法不得用于顯影液達(dá)到飽和時(shí)，例如當(dāng)必須除去大量顯影后的光刻膠時(shí)或者凹凸圖形阻礙了更換顯影液時(shí)。 在這些情況下，需多步使用浸置式顯影或者使用噴涂式顯