理化公司成為美國(guó)JC Nabity公司NPGS納米圖形發(fā)生系統(tǒng)中國(guó)地區(qū)授權(quán)代理商。美國(guó)JC Nabity Lithography Systems成立于1988年，公司成功研發(fā)了基于改造SEM、STEM或FIB的電子束曝光裝置（Nanometer Pattern Generation System納米圖形發(fā)生系統(tǒng)，簡(jiǎn)稱(chēng)NPGS，又稱(chēng)電子束微影系統(tǒng)）。電子束曝光技術(shù)具有可直接刻畫(huà)精細(xì)圖案的優(yōu)點(diǎn)，且高能電子的波長(zhǎng)短（< 1 nm），可避免繞射效應(yīng)的困擾，是實(shí)驗(yàn)室制作微小納米電子元件*的選擇。相對(duì)于購(gòu)買(mǎi)昂貴的電子束曝光機(jī)臺(tái)，以既有的SEM等為基礎(chǔ)，外加電子束控制系統(tǒng)，透過(guò)電腦介面控制電子顯微鏡中電子束之矢量掃描，以進(jìn)行直接刻畫(huà)圖案，在造價(jià)方面可大幅節(jié)省，且兼具原SEM 的觀測(cè)功能，在功能與價(jià)格方面均具有優(yōu)勢(shì)。由于其具有高分辨率以及低成本等特點(diǎn)，在北美研究機(jī)構(gòu)中，JC Nabity的NPGS是的配套于掃描電鏡的電子束微影曝光系統(tǒng)，而且它的應(yīng)用在世界各地越來(lái)越廣泛。
        NPGS的技術(shù)目標(biāo)是提供一個(gè)功能強(qiáng)大的多樣化簡(jiǎn)易操作系統(tǒng)，結(jié)合使用市面上已有的掃描電鏡、掃描透射電鏡或聚焦離子束裝置，用來(lái)實(shí)現(xiàn)藝術(shù)級(jí)的電子束或離子束平版印刷技術(shù)。NPGS能成功滿足這個(gè)目的，得到了當(dāng)前眾多用戶的強(qiáng)烈推薦和一致肯定。