廣州格丹納儀器有限公司
多晶硅材料消解的方法要點(diǎn),一定要碼住
檢測(cè)樣品:多晶硅
檢測(cè)項(xiàng)目:消解
方案概述:多晶硅是生產(chǎn)單晶硅的直接原料,是當(dāng)代人工智能、自動(dòng)控制、信息處理、光電轉(zhuǎn)換等半導(dǎo)體器件的電子信息基礎(chǔ)材料。被稱為“微電子大廈的基石”。
多晶硅是生產(chǎn)單晶硅的直接原料,是當(dāng)代人工智能、自動(dòng)控制、信息處理、光電轉(zhuǎn)換等半導(dǎo)體器件的電子信息基礎(chǔ)材料。被稱為“微電子大廈的基石”。
多晶硅,灰色金屬光澤。密度2.32~2.34。熔點(diǎn)1410℃。沸點(diǎn)2355℃。溶于氫氟酸和硝酸的混酸中,不溶于水、硝酸和鹽酸。常溫下不活潑,高溫下與氧、氮、硫等反應(yīng)。高溫熔融狀態(tài)下,具有較大的化學(xué)活潑性,能與幾乎任何材料作用。具有半導(dǎo)體性質(zhì),是極為重要的優(yōu)良半導(dǎo)體材料,但微量的雜質(zhì)即可大大影響其導(dǎo)電性。目前,對(duì)硅材料中各種雜質(zhì)進(jìn)行檢測(cè)前通常采用酸溶法或堿熔法消解處理后才能進(jìn)行雜質(zhì)含量分析。在選用溶劑時(shí)一般要考慮被測(cè)元素能否迅速、*溶解。試樣處理過程中要考慮被測(cè)元素的揮發(fā)損失;被測(cè)元素是否會(huì)與其他被測(cè)組分生成不溶性物質(zhì);過量溶劑可能對(duì)分析結(jié)果產(chǎn)生的干擾(如污染和干擾效應(yīng)等);是否損傷容器。堿熔法基本使用氫氧化鈉溶解樣品,產(chǎn)物硅酸鈉易水解形成硅酸難以消除基體硅對(duì)測(cè)定的影響,而且在光譜、質(zhì)譜分析過程中容易堵塞炬管。
本文采用酸溶法溶解多晶硅樣品,探究一個(gè)適用于國(guó)內(nèi)市場(chǎng)上所售多晶硅樣品有效的消解體系和消解手段。研究了消解中水、氫氟酸和硝酸的用量,比較了超聲助消解、水浴加熱助消解和微波助消解對(duì)消解效果的影響。
實(shí)驗(yàn)部分
實(shí)驗(yàn)儀器
電子分析天平
智能石墨消解儀(格丹納公司,D4)
超聲波清洗器
水浴鍋(格丹納公司)
微波消解儀(格丹納公司,A8)
電熱鼓風(fēng)干燥箱
超純水機(jī)
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