XAD-200是一款全元素上照式熒光光譜儀，既保留了專用測厚儀檢測微小樣品和凹槽的膜厚性能，又可滿足RoHS有害元素檢測及成分分析，搭載全自動平臺實(shí)現(xiàn)XYZ軸編程位移，實(shí)現(xiàn)無人值守多點(diǎn)測量，測量軟件置入先進(jìn)的EFP算法及解譜技術(shù)，解決了諸多業(yè)界難題。

          被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對生產(chǎn)工藝控制的測量使用。

          1）搭載微聚焦加強(qiáng)型X射線發(fā)生器和先進(jìn)的光路轉(zhuǎn)換聚焦系統(tǒng)，最小測量面積達(dá)0.03mm2

          2）擁有無損變焦檢測技術(shù)，手動變焦功能，可對各種異形凹槽件進(jìn)行無損檢測，凹槽深度范圍0-90mm

         3）核心EFP算法，可對多層多元素，包括同種元素在不同層都可快、準(zhǔn)、穩(wěn)的做出數(shù)據(jù)分析（釹鐵硼磁鐵上Ni/Cu/Ni/FeNdB，精準(zhǔn)檢測第一層Ni和第三層Ni的厚度）

        4）配備全自動可編程移動平臺，可實(shí)現(xiàn)無人值守，對成百上千個(gè)樣品進(jìn)行全自動檢測

        5）涂鍍層分析范圍：鋰Li（3）- 鈾U（92）

        6）成分分析范圍：鋁Al（13）- 鈾U（92）

        7）RoHS、鹵素有害元素檢測

        8）人性化封閉軟件，自動判斷故障提示校正及操作步驟，避免誤操作

       9）標(biāo)配四準(zhǔn)直器自動切換

      10）配有微光聚集技術(shù)，最近測距光斑擴(kuò)散度小于10%