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核心裝備賦能半導體創(chuàng)新 雷博科儀閃耀慕尼黑上海光博會
2025年03月18日 15:11:24
來源：化工儀器網 作者：羊舌木 點擊量：9188
在本次展會現場，雷博科儀攜五大優(yōu)良儀器——AC200勻膠機、DM200-SE顯影機、HP100-SE烤膠機、EC400有機-金屬真空熱蒸鍍儀、MS450多靶磁控濺射鍍膜系統亮相。
作為亞洲激光、光學、光電行業(yè)的年度盛會，本屆慕尼黑上海光博會以“躬耕不輟，智啟新程”為主題，超過1400家展商齊聚申城，展示面積逾10萬平方米，全面展示激光、光學、光電領域從基礎元器件到系統集成的全產業(yè)鏈創(chuàng)新成果。江蘇雷博科學儀器有限公司(以下簡稱“雷博科儀”)受邀參與此次盛會，并在E7館檢測與質量控制區(qū)大放光彩。
雷博科儀專注于為微電子和半導體領域的高等院校、科研院以及各類生產企業(yè)提供半導體設備儀器。在本次展會現場，雷博科儀攜五大精良儀器——AC200勻膠機、DM200-SE顯影機、HP100-SE烤膠機、EC400有機-金屬真空熱蒸鍍儀、MS450多靶磁控濺射鍍膜系統亮相。
雷博科儀展臺不僅是技術展示的窗口，更是行業(yè)交流的樞紐——科研學者、工程師與產業(yè)先鋒在此碰撞思想火花，共同探討未來技術路徑。這種直面用戶的深度互動，也為雷博科儀后續(xù)產品研發(fā)與市場拓展注入新的動能。
AC200勻膠機
AC200勻膠機
AC200勻膠機以全新升級的外觀設計適配實驗室需求，其先進的設計理念采用模塊化架構，不僅支持去邊、背洗、勻膠、顯影、清洗等多功能模塊的個性化定制與自由組合，更可實現功能模塊快速拆卸替換，顯著提升操作便捷性。
設備搭載精密運動控制系統，通過高度集成的技術方案，在保障實驗精度與重復性的同時，為用戶提供了從基礎研發(fā)到工藝優(yōu)化的全流程靈活支持，充分滿足復雜實驗場景下的定制化需求與高效運維標準。
DM200-SE顯影機
DM200-SE顯影機
DM200-SE顯影機通過創(chuàng)新技術設計，實現了工藝精度與操作效能的雙重突破。設備采用全封閉式顯影結構，有效防止顯影霧氣外溢，既保障實驗環(huán)境潔凈無污染，又通過內腔鏡面拋光不銹鋼材質與耐腐蝕噴塑外殼的協同作用，確保設備表面光潔易維護。
DM200-SE顯影機核心功能系統搭載可調節(jié)的波體流量與回吸控制模塊，配合實時顯示的真空壓力調節(jié)系統，支持精細化工藝參數定制；內置真空過濾器形成雙重防護機制，既能精準阻隔液體侵入真空泵，又通過模塊化設計滿足多場景工藝需求，為半導體及微電子領域提供了兼具環(huán)境友好性、操作靈活性與設備耐久性的顯影解決方案。
HP100-SE烤膠機
HP100-SE烤膠機
HP100-SE烤膠機通過創(chuàng)新技術整合與人性化設計，為半導體工藝提供高效解決方案。設備采用硬質陽極氧化鋁耐腐蝕面板，確保長期使用的結構穩(wěn)定性與抗腐蝕性能；配備7寸全彩觸控屏與高級PLC控制系統，實現精準參數調控與智能化操作體驗。
其嵌入式安裝設計支持操作高度靈活調節(jié)，適配不同實驗環(huán)境需求，結合自動頂升功能可快速切換至接近烤膠模式，既優(yōu)化工藝流程又提升操作便捷性，充分滿足高精度烘烤工藝對設備穩(wěn)定性、操控性與空間適配性的多重需求。
EC400有機-金屬真空熱蒸鍍儀
EC400有機-金屬真空熱蒸鍍儀
EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設備，主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成。主機與控制一體化設計，操控方便;結構緊湊，占地面積小。
MS450多靶磁控濺射鍍膜系統
MS450多靶磁控濺射鍍膜系統
MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備，主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成。主機與控制一體化設計，操控方便，并且其結構緊湊，占地面積小。
雷博科儀始終堅守“卓越科學儀器，專業(yè)領域服務”的企業(yè)理念，提供精良設備，確保每一位科研人員在科研道路上能夠更加順暢和高效。在慕尼黑上海光博會的璀璨舞臺上，雷博科儀展示的每一臺設備都凝聚著雷博科儀對半導體工藝需求的深刻洞察與技術沉淀。雷博科儀正以匠心深耕技術沃土，用智慧開啟中國半導體裝備產業(yè)的新征程。未來，我們期待見證更多中國智造的力量在科技舞臺綻放光芒。
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